制備了一種銅基有機(jī)骨架材料Cu-H₄L₁,并用其對水相中的陽離子艷紅5GN進(jìn)行吸附和可見光催化降解試驗(yàn)。結(jié)果表明:30 mg Cu-H₄L₁在180 min內(nèi)對10 mL質(zhì)量濃度為10 mg/L的陽離子艷紅5GN吸附率高達(dá)88.42%,吸附速率為9.70×10^-2mg/（g·min）;在可見光照射下,100 min內(nèi)5 mg Cu-H₄L₁對40 mL質(zhì)量濃度為10 mg/L的陽離子艷紅5GN的光催化降解效率達(dá)到100%。采用傅里葉紅外光譜、X射線衍射和熱重分析等對Cu-H₄L₁進(jìn)行測試表征,結(jié)果顯示Cu-H₄L₁具有較好的晶形和較高的熱穩(wěn)定性。 

【文章來源】：印染. 2020,46(01)北大核心

【文章頁數(shù)】：5 頁

【部分圖文】：

H4L1和Cu-H4L1的紅外光譜圖

由圖2可以看出，文獻(xiàn)中報(bào)道的Cu-H4L1有三個(gè)主要特征峰，其衍射角分別在5.12°、6.40°和11.38°，本試驗(yàn)所合成的Cu-H4L1的XRD圖在以上三個(gè)角度都有相應(yīng)的特征峰，兩者相吻合。因此，本試驗(yàn)成功合成了文獻(xiàn)中報(bào)道的Cu基MOF:CuH4L1(HNUST-1）。2.1.3 Cu-H4L1的熱穩(wěn)定性

對制備的樣品進(jìn)行熱穩(wěn)定性測試，見圖3。由圖3可以看出，Cu-H4L1在N2氣氛下由50℃升溫至800℃的過程中主要經(jīng)歷了三個(gè)質(zhì)量損失過程：50～115.25℃的質(zhì)量減少是由于Cu-H4L1孔道里游離的DMF分子和乙腈分子隨溫度上升而逸出造成的；115.25～264.75℃范圍內(nèi)的質(zhì)量減少歸因于與Cu(II）配位的DMF溶劑分子在高溫下脫離所致；在264℃之后的質(zhì)量損失，是因?yàn)镃u-MOF的主體框架開始發(fā)生坍塌所造成的。由此可知，所制備的Cu-H4L1具有很好的熱穩(wěn)定性。

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]雙功能Cu-MOF對染料的物理吸附及光化學(xué)降解[J]. 王雅,李慶,管斌斌,樊增祿.  印染. 2019(11)
[2]氧化還原酶在印染廢水處理中的應(yīng)用[J]. 莊華煒.  印染. 2019(09)
[3]Cu-有機(jī)骨架對染料廢水的吸附和可見光降解[J]. 李慶,張瑩,樊增祿,朱煒.  紡織學(xué)報(bào). 2018(02)
[4]印染廢水的O3+Fenton+UV/H2O2組合氧化處理技術(shù)[J]. 賈中原,夏斌,郭海波.  印染. 2017(15)
[5]探析印染廢水的危害及其治理措施[J]. 翟英華.  黑龍江科技信息. 2017(11)
[6]印染廢水處理及其資源化利用[J]. 石泰山.  印染. 2013(23)



本文編號：3070402