金屬有機(jī)骨架/聚合物復(fù)合膜的制備及氣體分離性能的研究
發(fā)布時(shí)間:2024-02-03 21:47
面對(duì)日益嚴(yán)重的環(huán)境問(wèn)題,對(duì)有害氣體排放的有效降低,石化天然氣的大規(guī)模精細(xì)分離以及對(duì)氫氣等優(yōu)質(zhì)清潔能源氣體的高效純化利用使得氣體分離成為治理環(huán)境污染的關(guān)鍵課題。膜分離技術(shù)作為一種新興的高效分離技術(shù),受到人們?cè)絹?lái)越廣泛的關(guān)注與重視。金屬有機(jī)骨架材料(MOF)具有優(yōu)異的分子吸附與篩分能力,使其在分離的應(yīng)用中展現(xiàn)出巨大的潛能,成為制備高性能氣體分離膜的理想材料。目前,MOF氣體分離的相關(guān)研究主要以無(wú)機(jī)材料作為基底,但其高昂的生產(chǎn)成本不利于大規(guī)模工業(yè)化應(yīng)用。聚合物材料造價(jià)低廉,可加工性好,種類多樣,制備工藝簡(jiǎn)便,因此,MOF/聚合物復(fù)合膜具有更大的工業(yè)應(yīng)用前景,但目前其相關(guān)研究相對(duì)較少。本課題意在探索以聚合物膜為基底制備高性能MOF復(fù)合膜的方法,同時(shí)改善MOF/聚合物復(fù)合膜面臨的合成活化過(guò)程中產(chǎn)生缺陷,MOF層與聚合物基底連接強(qiáng)度低等問(wèn)題。本課題的主要研究?jī)?nèi)容如下:1.針對(duì)聚合物基底缺少結(jié)晶位點(diǎn)及MOF層與聚合物基底連接強(qiáng)度低的問(wèn)題,采用原位合成的方法制備了ZIF-8原位嵌入的PSf基底,并在該基底上生長(zhǎng)MOF膜。制備的基膜表面存在ZIF-8納米顆粒,一方面,這些嵌入式的顆粒起到了鉚釘作用以提高...
【文章頁(yè)數(shù)】:131 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【文章目錄】:
學(xué)位論文的主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn)
摘要
abstract
第一章 緒論
1.1 引言
1.2 氣體分離膜
1.2.1 氣體分離膜原理
1.2.2 氣體分離膜材料
1.3 金屬有機(jī)骨架:結(jié)構(gòu),化學(xué)性質(zhì),穩(wěn)定性及發(fā)展歷程
1.3.1 MOF簡(jiǎn)介及結(jié)構(gòu)
1.3.2 MOF化學(xué)性質(zhì)
1.3.3 MOF的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性
1.3.4 MOF的發(fā)展歷程
1.4 MOF復(fù)合膜簡(jiǎn)介
1.5 MOF復(fù)合膜的制備方法
1.5.1 直接結(jié)晶(Direct crystallization)法
1.5.2 外延生長(zhǎng)法(Epitaxial growth)法與二次生長(zhǎng)(Secondary growth)法
1.5.3 界面與反擴(kuò)散合成(Interfacial and contra-diffusion synthesis)法
1.5.4 逐層組裝(Layer-by-Layer assembly)法
1.5.5 微流控(Microfluidic processing)法
1.5.6 限制轉(zhuǎn)換(Confinement conversion)法
1.5.7 氣相沉積(Vapor deposition)法
1.5.8 快速熱沉積(Rapid thermal deposition)法與電沉積(Electrochemical deposition)法
1.6 MOF膜的改性
1.7 MOF膜制備技術(shù)小結(jié)與展望
1.8 本文意義,研究思路及研究?jī)?nèi)容
1.8.1 研究意義及思路
1.8.2 研究?jī)?nèi)容
第二章 在原位嵌入ZIF-8 晶體顆粒的聚砜膜上制備超薄MOF膜
2.1 研究背景
2.2 實(shí)驗(yàn)部分
2.2.1 材料和試劑
2.2.2 ZIF-8 原位嵌入PSf基膜制備
2.2.3 多次晶體生長(zhǎng)法制備ZIF-8復(fù)合膜
2.2.4 儀器與表征
2.2.5 氣體分離性能測(cè)試
2.3 結(jié)果與討論
2.3.1 ZIF-8 原位嵌入的PSf基膜的制備
2.3.2 ZIF-8膜的制備
2.4 氣體分離性能測(cè)試
2.5 ZIF-8膜的機(jī)械強(qiáng)度
2.6 小結(jié)
第三章 以二維MOF納米片為晶種通過(guò)Layer-by-Layer法制備超薄MOF/聚合物復(fù)合膜
3.1 研究背景
3.2 實(shí)驗(yàn)部分
3.2.1 材料與試劑
3.2.2 二維MOF(Zn2(bim)4)納米片的制備
3.2.3 PAN膜的水解
3.2.4 MOF膜的制備
3.2.5 儀器與表征
3.2.6 氣體分離性能測(cè)試
3.3 結(jié)果與分析
3.3.1 Zn2(bim)4納米片
3.3.2 二維MOF納米片沉積的PAN膜
3.3.3 MOF膜
3.4 氣體分離性能測(cè)試
3.5 小結(jié)
第四章 以二維MOF納米片作為中間層制備高性能氣體分離TFC膜
4.1 研究背景
4.2 實(shí)驗(yàn)部分
4.2.1 材料與試劑
4.2.2 二維MOF納米片中間層的沉積
4.2.3 通過(guò)界面聚合制備TFC膜
4.2.4 測(cè)試與表征
4.2.5 氣體分離性能測(cè)試
4.3 結(jié)果與討論
4.3.1 負(fù)載二維MOF納米片中間層的基底(M1)與TFC膜(M2-M6)
4.3.2 氣體分離性能測(cè)試
4.3.3 膜穩(wěn)定性測(cè)試
4.4 二維MOF納米片中間層對(duì)TFC膜氣體分離性能的影響
4.5 小結(jié)
第五章 結(jié)論與展望
5.1 結(jié)論
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀博士學(xué)位期間發(fā)表論文及承擔(dān)完成科研情況
致謝
本文編號(hào):3894739
【文章頁(yè)數(shù)】:131 頁(yè)
【學(xué)位級(jí)別】:博士
【文章目錄】:
學(xué)位論文的主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn)
摘要
abstract
第一章 緒論
1.1 引言
1.2 氣體分離膜
1.2.1 氣體分離膜原理
1.2.2 氣體分離膜材料
1.3 金屬有機(jī)骨架:結(jié)構(gòu),化學(xué)性質(zhì),穩(wěn)定性及發(fā)展歷程
1.3.1 MOF簡(jiǎn)介及結(jié)構(gòu)
1.3.2 MOF化學(xué)性質(zhì)
1.3.3 MOF的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性
1.3.4 MOF的發(fā)展歷程
1.4 MOF復(fù)合膜簡(jiǎn)介
1.5 MOF復(fù)合膜的制備方法
1.5.1 直接結(jié)晶(Direct crystallization)法
1.5.2 外延生長(zhǎng)法(Epitaxial growth)法與二次生長(zhǎng)(Secondary growth)法
1.5.3 界面與反擴(kuò)散合成(Interfacial and contra-diffusion synthesis)法
1.5.4 逐層組裝(Layer-by-Layer assembly)法
1.5.5 微流控(Microfluidic processing)法
1.5.6 限制轉(zhuǎn)換(Confinement conversion)法
1.5.7 氣相沉積(Vapor deposition)法
1.5.8 快速熱沉積(Rapid thermal deposition)法與電沉積(Electrochemical deposition)法
1.6 MOF膜的改性
1.7 MOF膜制備技術(shù)小結(jié)與展望
1.8 本文意義,研究思路及研究?jī)?nèi)容
1.8.1 研究意義及思路
1.8.2 研究?jī)?nèi)容
第二章 在原位嵌入ZIF-8 晶體顆粒的聚砜膜上制備超薄MOF膜
2.1 研究背景
2.2 實(shí)驗(yàn)部分
2.2.1 材料和試劑
2.2.2 ZIF-8 原位嵌入PSf基膜制備
2.2.3 多次晶體生長(zhǎng)法制備ZIF-8復(fù)合膜
2.2.4 儀器與表征
2.2.5 氣體分離性能測(cè)試
2.3 結(jié)果與討論
2.3.1 ZIF-8 原位嵌入的PSf基膜的制備
2.3.2 ZIF-8膜的制備
2.4 氣體分離性能測(cè)試
2.5 ZIF-8膜的機(jī)械強(qiáng)度
2.6 小結(jié)
第三章 以二維MOF納米片為晶種通過(guò)Layer-by-Layer法制備超薄MOF/聚合物復(fù)合膜
3.1 研究背景
3.2 實(shí)驗(yàn)部分
3.2.1 材料與試劑
3.2.2 二維MOF(Zn2(bim)4)納米片的制備
3.2.3 PAN膜的水解
3.2.4 MOF膜的制備
3.2.5 儀器與表征
3.2.6 氣體分離性能測(cè)試
3.3 結(jié)果與分析
3.3.1 Zn2(bim)4納米片
3.3.2 二維MOF納米片沉積的PAN膜
3.3.3 MOF膜
3.4 氣體分離性能測(cè)試
3.5 小結(jié)
第四章 以二維MOF納米片作為中間層制備高性能氣體分離TFC膜
4.1 研究背景
4.2 實(shí)驗(yàn)部分
4.2.1 材料與試劑
4.2.2 二維MOF納米片中間層的沉積
4.2.3 通過(guò)界面聚合制備TFC膜
4.2.4 測(cè)試與表征
4.2.5 氣體分離性能測(cè)試
4.3 結(jié)果與討論
4.3.1 負(fù)載二維MOF納米片中間層的基底(M1)與TFC膜(M2-M6)
4.3.2 氣體分離性能測(cè)試
4.3.3 膜穩(wěn)定性測(cè)試
4.4 二維MOF納米片中間層對(duì)TFC膜氣體分離性能的影響
4.5 小結(jié)
第五章 結(jié)論與展望
5.1 結(jié)論
5.2 展望
參考文獻(xiàn)
攻讀博士學(xué)位期間發(fā)表論文及承擔(dān)完成科研情況
致謝
本文編號(hào):3894739
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