基于SiPM測量的表面污染儀的研制
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【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖2.1?MRS結(jié)構(gòu)??最早的SiPM結(jié)構(gòu)是由俄羅斯科學家提出研究的MRS結(jié)構(gòu)%如圖2.1所示
P*-Si區(qū)?叱-S像素N+-Si區(qū)?N-Si晶片??圖2.1?MRS結(jié)構(gòu)??最早的SiPM結(jié)構(gòu)是由俄羅斯科學家提出研究的MRS結(jié)構(gòu)%如圖2.1所示。這種??結(jié)構(gòu)的APD淬滅電阻是由透明SiC膜組成,其通光窗格及各單元互聯(lián)線是由半透明金??屬膜組成,但是這種結(jié)構(gòu)制作難度大、使用效....
圖2.3利用體電阻進行淬滅的SiPM結(jié)構(gòu)??第三種是利用體電阻進行淬滅的SiPM結(jié)構(gòu)
s\—y<X??圖2.2負反饋效應模型結(jié)構(gòu)??這種負反饋效應模型結(jié)構(gòu)的亮點在于減少了在硅片表面制作多晶硅條的復雜工藝,??使得光子探測效率升高。但是該種結(jié)構(gòu)的APD單元的恢復時間較長,而且正常工作的??電壓變化范圍太窄,工作穩(wěn)定性不高。??邊緣電場區(qū)域?高電場區(qū)域?Si02?電極....
圖2.2負反饋效應模型結(jié)構(gòu)??
I??背面電極??圖2.3利用體電阻進行淬滅的SiPM結(jié)構(gòu)??第三種是利用體電阻進行淬滅的SiPM結(jié)構(gòu)。在國際上這種SiPM最先由北京師范??大學韓德俊教授領導的研究小組研制成功[|61。其結(jié)構(gòu)如圖2.3所示,該種結(jié)構(gòu)利用硅襯??底的體電阻自身特性對APD單元進行淬滅,大大簡化了....
圖2.4P一結(jié)原理示意圖
該器件在室溫下的暗脈沖計數(shù)率約為1.5MHz,同時效率在460nm的峰值處達到25.6%。??上,對硅光電倍增管的結(jié)構(gòu)設計己較為成熟,愛爾蘭、日和研究院所推出了這類產(chǎn)品。SensL,濱松等企業(yè)生產(chǎn)的物理、核醫(yī)學儀器以及射線探測領域得到了實踐驗證。??工作原理??于P-N結(jié)的半導體....
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