針對高功率激光裝置中靶面輻照均勻性的高要求,提出了一種利用束間動態(tài)干涉改善輻照均勻性的快速勻滑方法.基本原理是利用共軛相位板陣列對存在一定波長差的多束激光附加相位調制,從而使各子束在遠場兩兩相干疊加以產(chǎn)生動態(tài)的干涉圖樣,進而引起焦斑內部散斑的動態(tài)掃動,在ps時間內抹平不均勻性.以典型慣性約束聚變裝置中的激光集束為例,通過建立基于束間動態(tài)干涉的快速勻滑物理模型,定量分析了相位板類型、相位調制幅度和束間波長差等因素對焦斑動態(tài)干涉圖樣的影響及規(guī)律,進而對其束勻滑特性進行了討論.結果表明,基于束間動態(tài)干涉的快速勻滑方法可以有效地實現(xiàn)多方向、多維度的焦斑內部散斑快速掃動,且通過與傳統(tǒng)束勻滑技術的聯(lián)用,可以在更短的時間內達到更好的焦斑均勻性. 

【文章來源】：物理學報. 2020,69(06)北大核心EISCICSCD

【文章頁數(shù)】：9 頁

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3261798