Ti 3 SiC 2 MAX相材料的輻照損傷及氦行為研究
發(fā)布時(shí)間:2021-01-23 06:32
核聚變?yōu)槿祟愇磥砟茉刺峁┝艘粋(gè)理想的選擇,將成為世界能量供給的主要源泉。但是,聚變能的利用目前仍然面臨科學(xué)以及技術(shù)兩方面的挑戰(zhàn)。其中,在“燃燒環(huán)境下”聚變堆結(jié)構(gòu)材料的性能是最嚴(yán)重的問題之一,早在1946年,費(fèi)米就指出,核技術(shù)成功的關(guān)鍵取決于強(qiáng)輻照下材料的行為。聚變能源裝置中結(jié)構(gòu)材料不僅面臨高通量的14MeV的高能中子的輻照損傷,同時(shí)承受14MeV高能中子與材料原子核發(fā)生(n, α)、(n, p)反應(yīng)生成的大量氫氦以及其他產(chǎn)物的作用。這將對材料的高溫力學(xué)和熱學(xué)性能、抗輻照性能以及其它一些物理化學(xué)和技術(shù)特性提出了最嚴(yán)重挑戰(zhàn)。本文針對聚變堆結(jié)構(gòu)材料面臨的兩個(gè)主要問題即粒子輻照效應(yīng)和嬗變氫氦在結(jié)構(gòu)材料中的行為展開研究。在聚變反應(yīng)堆中,載能粒子與結(jié)構(gòu)材料的晶格原子發(fā)生碰撞產(chǎn)生初級離位原子(PKA)和嬗變核素,而這些初級離位原子和嬗變核素在晶格中又會產(chǎn)生一系列的碰撞從而形成碰撞級聯(lián)。在碰撞過程中主要是結(jié)構(gòu)材料自身原子之間的碰撞,因此采用自離子輻照研究材料的輻照損傷更加接近真實(shí)環(huán)境,而且不會引入雜質(zhì),避免了摻雜效應(yīng)。Ti3SiC2 MAX相材料被認(rèn)為是一種潛在的聚變堆候選結(jié)構(gòu)材料,本文開展了Ti3S...
【文章來源】:復(fù)旦大學(xué)上海市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:130 頁
【學(xué)位級別】:博士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
第一章 緒論
1.1 研究背景及意義
1.1.1 聚變能的戰(zhàn)略意義
1.1.2 受控核聚變簡介
1.1.3 聚變堆結(jié)構(gòu)材料面臨的嚴(yán)峻考驗(yàn)
1.2 材料輻照效應(yīng)
1.2.1 運(yùn)動粒子的慢化
1.2.2 輻照損傷基本原理
1.2.3 氣體產(chǎn)生損傷的物理原理
1.3 材料中的氦行為
1.3.1 材料中氦原子的捕陷和聚集
1.3.2 氦原子在材料中的遷移
1.3.3 氦泡的形成和長大
1.3.4 氦的引入方法
3SiC2的介紹"> 1.4 MAX相材料Ti3SiC2的介紹
1.4.1 聚變堆結(jié)構(gòu)材料
3SiC2 MAX相材料"> 1.4.2 Ti3SiC2 MAX相材料
3SiC2的研究現(xiàn)狀"> 1.4.3 MAX相材料Ti3SiC2的研究現(xiàn)狀
1.5 本文研究內(nèi)容與創(chuàng)新點(diǎn)
參考文獻(xiàn)
第二章 材料分析方法及原理
2.1 離子束分析方法(IBA)
2.1.1 盧瑟福背散射分析(RBS)
2.2 X射線衍射(XRD)
2.2.1 XRD基本原理
2.2.2 同步輻射XRD
2.3 掃描電子顯微鏡(SEM)
2.4 透射電子顯微鏡(TEM)
2.5 拉曼光譜分析(RS)
2.6 X射線光電子譜分析(XPS)
參考文獻(xiàn)
3SiC2自離子輻照損傷">第三章 MAX相材料Ti3SiC2自離子輻照損傷
3SiC2 MAX相材料簡介及輻照損傷研究現(xiàn)狀"> 3.1 Ti3SiC2 MAX相材料簡介及輻照損傷研究現(xiàn)狀
3.2 樣品制備
3SiC2的輻照損傷及恢復(fù)效應(yīng)"> 3.3 C離子對Ti3SiC2的輻照損傷及恢復(fù)效應(yīng)
3.3.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
3.3.2 同步輻射XRD掠角分析
3.3.3 室溫下輻照損傷的研究
3.3.4 高溫輻照損傷的研究
3.3.5 Rietveld XRD譜擬合和結(jié)構(gòu)精修分析晶體損傷
3.3.6 拉曼譜分析(RS)
3.3.7 掃描電鏡分析(SEM)
3.3.8 透射電鏡分析(TEM)
3SiC2綜合討論"> 3.3.9 C離子輻照MAX相Ti3SiC2綜合討論
3SiC2的輻照效應(yīng)"> 3.4 Si離子對MAX相Ti3SiC2的輻照效應(yīng)
3.4.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
3.4.2 同步輻射掠角XRD分析
3.4.3 拉曼譜和非盧瑟福散射分析
3.4.4 SEM分析
3.5 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
3SiC2中的行為研究">第四章 氫氦在MAX相Ti3SiC2中的行為研究
4.1 氫氦在材料中的行為研究現(xiàn)狀
4.1.1 氫氦在金屬材料中的行為
4.1.2 氫氦在MAX材料中的行為
3SiC2材料中擴(kuò)散行為的研究"> 4.2 氦在Ti3SiC2材料中擴(kuò)散行為的研究
4.2.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
4.2.2 實(shí)驗(yàn)原理
4.2.3 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3 氫氦對Ti3SiC2輻照行為的研究
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3.1 氦離子對Ti3SiC2輻照行為的研究
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3.2 氫氦協(xié)同對Ti3SiC2輻照行為的研究
4.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
3SiC2 MAX相薄膜材料的制備">第五章 Ti3SiC2 MAX相薄膜材料的制備
5.1 磁控濺射技術(shù)介紹
5.2 單晶TiC種子層的制備
5.2.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
5.2.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果和討論
3SiC2單晶薄膜制備的探索"> 5.3 Ti3SiC2單晶薄膜制備的探索
5.3.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
5.3.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
5.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第六章 總結(jié)與展望
致謝
攻讀博士學(xué)位期間學(xué)術(shù)論文發(fā)表情況
本文編號:2994738
【文章來源】:復(fù)旦大學(xué)上海市 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校
【文章頁數(shù)】:130 頁
【學(xué)位級別】:博士
【文章目錄】:
摘要
ABSTRACT
第一章 緒論
1.1 研究背景及意義
1.1.1 聚變能的戰(zhàn)略意義
1.1.2 受控核聚變簡介
1.1.3 聚變堆結(jié)構(gòu)材料面臨的嚴(yán)峻考驗(yàn)
1.2 材料輻照效應(yīng)
1.2.1 運(yùn)動粒子的慢化
1.2.2 輻照損傷基本原理
1.2.3 氣體產(chǎn)生損傷的物理原理
1.3 材料中的氦行為
1.3.1 材料中氦原子的捕陷和聚集
1.3.2 氦原子在材料中的遷移
1.3.3 氦泡的形成和長大
1.3.4 氦的引入方法
3SiC2的介紹"> 1.4 MAX相材料Ti3SiC2的介紹
1.4.1 聚變堆結(jié)構(gòu)材料
3SiC2 MAX相材料"> 1.4.2 Ti3SiC2 MAX相材料
3SiC2的研究現(xiàn)狀"> 1.4.3 MAX相材料Ti3SiC2的研究現(xiàn)狀
1.5 本文研究內(nèi)容與創(chuàng)新點(diǎn)
參考文獻(xiàn)
第二章 材料分析方法及原理
2.1 離子束分析方法(IBA)
2.1.1 盧瑟福背散射分析(RBS)
2.2 X射線衍射(XRD)
2.2.1 XRD基本原理
2.2.2 同步輻射XRD
2.3 掃描電子顯微鏡(SEM)
2.4 透射電子顯微鏡(TEM)
2.5 拉曼光譜分析(RS)
2.6 X射線光電子譜分析(XPS)
參考文獻(xiàn)
3SiC2自離子輻照損傷">第三章 MAX相材料Ti3SiC2自離子輻照損傷
3SiC2 MAX相材料簡介及輻照損傷研究現(xiàn)狀"> 3.1 Ti3SiC2 MAX相材料簡介及輻照損傷研究現(xiàn)狀
3.2 樣品制備
3SiC2的輻照損傷及恢復(fù)效應(yīng)"> 3.3 C離子對Ti3SiC2的輻照損傷及恢復(fù)效應(yīng)
3.3.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
3.3.2 同步輻射XRD掠角分析
3.3.3 室溫下輻照損傷的研究
3.3.4 高溫輻照損傷的研究
3.3.5 Rietveld XRD譜擬合和結(jié)構(gòu)精修分析晶體損傷
3.3.6 拉曼譜分析(RS)
3.3.7 掃描電鏡分析(SEM)
3.3.8 透射電鏡分析(TEM)
3SiC2綜合討論"> 3.3.9 C離子輻照MAX相Ti3SiC2綜合討論
3SiC2的輻照效應(yīng)"> 3.4 Si離子對MAX相Ti3SiC2的輻照效應(yīng)
3.4.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
3.4.2 同步輻射掠角XRD分析
3.4.3 拉曼譜和非盧瑟福散射分析
3.4.4 SEM分析
3.5 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
3SiC2中的行為研究">第四章 氫氦在MAX相Ti3SiC2中的行為研究
4.1 氫氦在材料中的行為研究現(xiàn)狀
4.1.1 氫氦在金屬材料中的行為
4.1.2 氫氦在MAX材料中的行為
3SiC2材料中擴(kuò)散行為的研究"> 4.2 氦在Ti3SiC2材料中擴(kuò)散行為的研究
4.2.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
4.2.2 實(shí)驗(yàn)原理
4.2.3 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3 氫氦對Ti3SiC2輻照行為的研究
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3.1 氦離子對Ti3SiC2輻照行為的研究
3SiC2輻照行為的研究"> 4.3.2 氫氦協(xié)同對Ti3SiC2輻照行為的研究
4.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
3SiC2 MAX相薄膜材料的制備">第五章 Ti3SiC2 MAX相薄膜材料的制備
5.1 磁控濺射技術(shù)介紹
5.2 單晶TiC種子層的制備
5.2.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
5.2.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果和討論
3SiC2單晶薄膜制備的探索"> 5.3 Ti3SiC2單晶薄膜制備的探索
5.3.1 實(shí)驗(yàn)參數(shù)
5.3.2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析
5.4 總結(jié)
參考文獻(xiàn)
第六章 總結(jié)與展望
致謝
攻讀博士學(xué)位期間學(xué)術(shù)論文發(fā)表情況
本文編號:2994738
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