【摘要】：因其加熱效率高、加熱機制清楚等優(yōu)點,中性束注入(Neutral Beam Injection)加熱被廣泛應用于大中型磁約束受控核聚變裝置。HL-2M裝置是HL-2A裝置的改造升級裝置,其建造目的是研究未來聚變堆相關物理及其關鍵技術,研究高壓比、高參數(shù)的聚變等離子體物理,為下一步建造聚變堆打好基礎。為了研究HL-2M裝置NBI加熱用的80kV/45A/5s熱陰極離子源束光學特性,本文利用現(xiàn)有的離子源測試平臺,設計并加工采用紅外CCD成像技術的束光學診斷系統(tǒng)。并采用實驗研究的方法,掃描離子源的放電和引出參數(shù),測量離子源引出粒子束轟擊量熱靶板產生的溫度分布。得到溫度分布后,利用matlab軟件進行高斯擬合,獲得了對應參數(shù)下量熱靶上的束功率密度分布,得到束功率密度空間分布區(qū)間特征參數(shù)1/e半寬度。實驗結果表明,HL-2M裝置NBI加熱系統(tǒng)80kV/45A離子源可用的導流系數(shù)范圍為0.7微樸～1.5微樸。同樣導流系數(shù)下,梯度電極與等離子體電極的分壓比較高時,引出束流的半寬度較小。此外,為了更好的研究離子源束光學特性,對離子源測試平臺進行升級改造,設計了一套可移動的5s長脈沖離子源診斷系統(tǒng)。利用安裝在銅靶上的熱電偶陣列,對離子束進行截取測量。其中本文主要介紹了量熱靶、移動平臺、中性化管道等部件的設計,為下一步實驗做好了基礎。
【學位授予單位】：西南交通大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2017
【分類號】：TL631

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本文編號：2621552