不同大豆品種對干旱和鹽脅迫的生理響應(yīng)機(jī)制
【學(xué)位授予單位】:河北大學(xué)
【學(xué)位級別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2018
【分類號】:S565.1
【圖文】:
圖 1. 逆境脅迫對不同大豆材料植株形態(tài)的影響澆水(WW)條件下生長 20 d 的幼苗;S15 d 和 S20 d——分別在干旱或鹽度下處理 1豆植株。Fig.1 Effect of stress on plant morphology of different soybean materials.dlings grown for 20 d under well-watered (WW) conditions, S15 d and S20 d - plants treatedsalinity for 15 and20 d, respectively.種脅迫下,RD 植株高度較 SD 植株高,但差異不顯著(P<0.05生物量也存在顯著差異(P<0.05)。其中,在干旱和鹽脅迫 20 d 部干重分別比 SD 植株高出 72.4%和 160.7%;而 RD 的根冠比較8%和 23.3%(表 8)。征決定了植物對土壤中水分吸收量的多少。在干旱和鹽脅迫條件度較 SD 植株增加 66.4%,在鹽脅迫下 RD 植株的主根長與干旱 主根長度達(dá)到了顯著差異(P<0.05)(表 8)。另外,在逆境脅迫和根表面積均受到不同程度的影響,其中 RD 植株受逆境脅迫的,較正常條件下增加了 197.00 mm,而 SD 總根長受到明顯的抑
圖 2 逆境脅迫對不同大豆材料植株形態(tài)的影響植株在充足澆水條件下生長;PEG 表示兩種植株在干旱脅迫下生長;NaCl 表示ig.2 Effect of stress on plant morphology of different soybean materialss that both planting strains were grown under sufficient watering; PEG means that twght stress, NaCl indicates that the two plants grow under salt stress.迫處理對大豆植株光合參數(shù)的影響以看出,正常條件下,二者相關(guān)光合參數(shù)差異不顯著(P<下,RD 植株的葉面積較 SD 分別高出 28.1%和 29.6%,且均此外,在兩種脅迫下,RD 植株的凈光合速率(PN)和氣D 植株(P<0.05)。其中,在干旱脅迫條件下 RD 植株 PN 和.60 倍和 1.61 倍;鹽脅迫條件下,RD 植株 PN 和 GS 分別較1.83 倍。在脅迫條件下,兩種植株中 Chl 含量均有下現(xiàn)象,降的更多。
3 逆境脅迫對不同大豆材料植株 RWC、REC 和 Pro 的影響(RD)大豆基因型,在水分充足(WW),干旱(15%PEG)C; A),相對電導(dǎo)率(REC; B)和脯氨酸含量(C)。數(shù)據(jù)為平均顯著P<0.01。f stress on the content of RWC、REC and Pro in different soybeanC; A), relative electrical conductivity (REC; B), and proline conte soybean genotypes exposed for 20 d to well-watered conditions (Ws ±SD, n = 3, ** - differences significant at P < 0.01.理對大豆葉片 MDA 以及 H2O2含量的影測定氧化脅迫的指標(biāo),測量了兩種類型葉片中比,干旱脅迫下 SD 植株 MDA 和 H2O2含量分別高 62.3%和 121.7%(圖 4A,B);與正常條 H2O2含量分別高 86.96%和 31.25%,鹽脅迫下件下,RD植株中MDA和H2O2含量較SD植株著水平(P<0.05);鹽脅迫條件下,RD 植株中 M
【參考文獻(xiàn)】
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本文編號:2761521
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