一種基于光譜分析和PLS算法的植保無人機霧滴沉積測量方法
發(fā)布時間:2021-05-18 14:47
無人機噴施作業(yè)被廣泛用于植保領域,而噴施霧滴沉積效果是影響化學防治效果的最重要因素之一。為了更準確地測量植保無人機噴施霧滴沉積,該研究提出了一種基于光譜分析和偏最小二乘(partial least squares,PLS)的植保無人機霧滴沉積測量方法。該方法包括四個步驟:熒光示蹤劑溶液噴施作業(yè)的霧滴收集,紙帶收集霧滴后光譜數(shù)據(jù)的采集,光譜數(shù)據(jù)的處理分析和PLS模型的建立。為了驗證該測量方法的適用性并獲得PLS模型的建模參數(shù),在田間進行了植保無人機熒光示蹤劑溶液噴霧實驗,紙帶收集霧滴后通過采集裝置掃描獲取其原始光譜數(shù)據(jù),采用卷積平滑算法(savitzky-golay,S-G)和變量標準化(standard normalizedvariate,SNV)等方法對光譜數(shù)據(jù)進行處理分析。霧滴覆蓋率是評價霧滴沉積效果的重要指標之一,基于PLS回歸算法對處理后的光譜數(shù)據(jù)所選取的特征波長建立了霧滴覆蓋率的預測模型。為了驗證PLS模型的優(yōu)越性,同時建立了傳統(tǒng)線性回歸(linear regression,LR)模型。研究結(jié)果表明:相比于LR模型(RV2=0.88...
【文章來源】:農(nóng)業(yè)工程技術. 2020,40(33)
【文章頁數(shù)】:1 頁
本文編號:3193979
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