本文關鍵詞：特發(fā)性全身性癲癇的腦微結構改變VBM-DARTEL研究

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【摘要】：[目的] 采用VBM-DARTEL (Voxel-based morphometry with Diffeomorphic anatomical registration through exponentiated lie algebra)分析方法觀察特發(fā)性全身性癲癇(Idiopathic Generalized Epilepsy,IGE)患者腦灰質結構改變的特征,為特發(fā)性全身性癲癇發(fā)病機制的研究提供功能神經(jīng)解剖學依據(jù)。[資料與方法](1)研究對象：收集23例常規(guī)頭顱磁共振無異常的IGE患者和年齡、性別、利手、受教育程度相匹配的正常對照姐23例,IGE組患者經(jīng)高年資神經(jīng)內(nèi)科及神經(jīng)外科醫(yī)師按照2005年國際抗癲癇聯(lián)盟(International League Against Epilepsy,ILAE)診斷癲癇和癲癇綜合征的標準進行篩選。(2)磁共振成像部分：采用荷蘭PHILIPS Achieva 3.0T TX超導磁共振掃描儀,8通道頭部相控陣線圈進行常規(guī)全腦掃描,排除腦器質性病變,腦內(nèi)結構正常者進入磁共振實驗數(shù)據(jù)采集,兩組均進行全腦3D T1WI數(shù)據(jù)采集。(3)數(shù)據(jù)后處理：采用VBM-DARTEL分析方法對組間的腦結構MRI圖像的灰質體積進行分析和統(tǒng)計學處理,當P0.001時可認為差異有統(tǒng)計學意義。[結果](1)IGE組與正常對照組在性別、年齡及受教育年限上差異無統(tǒng)計學意義； (2)與正常對照組相比,IGE患者存在廣泛的腦灰質體積減小,包括以下區(qū)域：左側額葉直回、左側額葉眶回、左側額中回、左側額下回、左側中央前回、右側額上回、右側額中回、右側旁中央小葉；左側顳上回、左側顳中回、左側顳下回、右側顳上回、右側顳中回、右側顳下回；左側頂上小葉、左側頂下小葉、左側緣上回、左側角回、右側角回、右側中央后回、右側楔前葉;左側枕下回、左側舌回、右側枕上回、右側枕下回、右側舌回、右側楔葉；左側前扣帶回、左側后扣帶回、右側前扣帶回；左側梭狀回；左側小腦前葉；右側殼核。 (3)與正常對照組相比,IGE患者亦存在灰質體積增加的腦區(qū),主要有以下區(qū)域：左側額上回、左側楔葉、右側頂上回。[結論] 本研究發(fā)現(xiàn)IGE患者存在廣泛的腦灰質體積減少,反映了IGE的微觀結構形態(tài)學的變化,為IGE潛在的神經(jīng)病理、解剖學的變化以及病理生理機制的理解提供影像學依據(jù)。
【關鍵詞】：特發(fā)性全身性癲癇 腦灰質 DARTEL 基于體素的形態(tài)學分析 磁共振
【學位授予單位】：昆明醫(yī)科大學
【學位級別】：碩士
【學位授予年份】：2016
【分類號】：R445.2;R741
【目錄】：

• 英文縮略詞表5-6
• 中文摘要6-8
• 英文摘要8-10
• 前言10-13
• 材料與方法13-18
• 結果18-29
• 討論29-37
• 結論37-38
• 參考文獻38-44
• 綜述44-52
• 參考文獻49-52
• 攻讀學位期間獲得的學術成果52-53
• 致謝53

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本文編號：786755