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19F磁共振成像造影劑研究進(jìn)展

發(fā)布時(shí)間:2023-12-24 18:00
  19F磁共振成像(19F magnetic relaxation imaging, 19F MRI)技術(shù)因其無內(nèi)源性背景噪聲而被廣泛應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)研究領(lǐng)域。磁共振成像技術(shù)被提出后,19F MRI造影劑的研究主要集中于全氟化碳類有機(jī)物,這類有機(jī)物具有高的19F載量、合適的弛豫時(shí)間、高的影像信噪比,同時(shí)可以通過修飾功能性的基團(tuán)實(shí)現(xiàn)多模式造影。近年來,19F MRI造影劑由全氟化碳等有機(jī)物逐漸向無機(jī)物延伸,出現(xiàn)了無機(jī)氟化物納米粒子造影劑。本文主要介紹了19F MRI造影劑的種類、研究現(xiàn)狀和應(yīng)用前景。

【文章頁數(shù)】:10 頁

【文章目錄】:
1 19F MRI造影劑研究進(jìn)展
    1.1 19F磁共振成像性能
    1.2 有機(jī)19F MRI造影劑
        1.2.1 小分子全氟化碳(PFOB,PCE)
        1.2.2 高分子和支鏈聚合物(PEPEs)
    1.3 無機(jī)氟化物造影劑
2 結(jié)論與展望



本文編號(hào):3875025

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