介孔硅修飾釓基納米造影劑對(duì)于提高磁共振造影性能的研究
【圖文】:
圖 1 不同氧化釓含量點(diǎn)綴的二氧化硅的比表面積及孔徑分布的圖A、B:分別為不同組份(SiO2,SG0,SG0.001,SG0.01,SG0.1,及 SG0.5)組合的氮?dú)馕?脫附曲線圖和孔徑分布圖;C:上述各組份的比表面積柱狀圖,SG0為對(duì)照組,與對(duì)照組比較,* P <0.05;** P <0.01;*** P <0.001;**** P <0.0001。D:SG0.1的氮?dú)馕?脫附曲線圖(Ⅰ)和孔徑分布圖(Ⅱ)Fig. 1 Specific surface area and pore size distribution of Gadolinium oxide with differentGadolinium contentAand B: nitrogen adsorption-desorption curves and pore size distributions of different components(SiO2, SG0, SG0.001, SG0.01, SG0.1and SG0.5), C: specific surface area histograms of the abovecomponents, SG0was the control group, compared with the control group, * P <0.05;** P <0.01*** P <0.001;**** P <0.0001. D: SG0.1nitrogen adsorption-desorption curves (I) and pore sizedistributions (II) respectively.
安徽醫(yī)科大學(xué)碩士學(xué)位論文入正硅酸四乙酯前,先加入不同分量的六水合氯化釓(Gd3·6H2O 的添加量逐漸增大,獲得納米粒子的比表面積逐漸增,,比表面積最大,為 661 cm3/g,繼續(xù)提高添加量,比表面積計(jì)學(xué)意義。圖 1 b 中可以看出,不同梯度的納米粒子,均具,SiO2孔容積最大,隨著加入的 GdCl3·6H2O 劑量逐漸增大徑逐漸減小,直徑均小于 4 nm,且孔容積逐漸降低。O 濃度梯度中,SG0.1最高的比表面積,且在孔直徑為 1.6 n
【學(xué)位授予單位】:安徽醫(yī)科大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2019
【分類號(hào)】:R445.2
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本文編號(hào):2690574
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