發(fā)布時(shí)間：2023-11-22 19:16

　　目前市場(chǎng)對(duì)于拋光產(chǎn)品表面的質(zhì)量要求越來(lái)越高,特別是珠三角地區(qū)的中小型制造企業(yè)。傳統(tǒng)的人手拋光方式對(duì)健康危害較大,導(dǎo)致拋光行業(yè)招工困難。此外,工業(yè)生產(chǎn)線上常使用多軸數(shù)控磨床、工業(yè)機(jī)械臂,雖然能滿足生產(chǎn)自動(dòng)化、高效率的拋光要求,然而高昂的設(shè)備成本限制了薄利的拋光行業(yè)發(fā)展。因此,本課題致力于研發(fā)低成本的拋光機(jī)器人系統(tǒng)及其控制策略,對(duì)提高拋光行業(yè)的生產(chǎn)鏈效益、避免低效率的重復(fù)工作以及保證工件拋磨效果均具有深遠(yuǎn)意義。本課題第一章首先結(jié)合目前拋光行業(yè)的發(fā)展水平,對(duì)于工業(yè)生產(chǎn)線上的兩大類拋光設(shè)備的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及存在問(wèn)題進(jìn)行分析,然后闡述了常用的恒力控制策略及新型恒力控制策略的研究方向。第二章介紹五自由度拋光機(jī)器人的總體機(jī)械結(jié)構(gòu)及其工作原理,分析主、被動(dòng)結(jié)合的恒力控制機(jī)構(gòu)的運(yùn)動(dòng)學(xué)特性。根據(jù)控制系統(tǒng)的性能要求,選擇合適的元器件(如主控制器、電氣比例閥和壓力傳感器)完成控制系統(tǒng)的搭建。第三章分析拋光機(jī)器人的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型,結(jié)合拋光機(jī)器人對(duì)不同形狀工件的拋光能力進(jìn)行驗(yàn)證。接著通過(guò)對(duì)一種通用工件的拋光力學(xué)模型進(jìn)行建模,運(yùn)算并推導(dǎo)拋光正壓力隨著工件輪廓的變化規(guī)律,理論上驗(yàn)證機(jī)器人對(duì)復(fù)雜曲面的恒力拋光能力。第四章首先在A...

【文章頁(yè)數(shù)】：86 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
致謝
摘要
ABSTRACT
1 緒論
    1.1 課題的研究背景及意義
    1.2 國(guó)內(nèi)外相關(guān)的研究現(xiàn)狀及分析
        1.2.1 一體式拋光機(jī)器人
        1.2.2 恒力控制裝置結(jié)構(gòu)
        1.2.3 恒力控制策略
    1.3 機(jī)器人力控制方法的研究意義
    1.4 論文的研究目的與主要內(nèi)容
2 機(jī)械結(jié)構(gòu)和控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    2.1 引言
    2.2 拋光機(jī)器人的機(jī)械結(jié)構(gòu)
        2.2.1 拋光機(jī)器人的主體機(jī)械結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)
        2.2.2 主、被動(dòng)結(jié)合的恒力控制機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
        2.2.3 拋光機(jī)器人的工作原理
    2.3 拋光機(jī)器人的控制系統(tǒng)設(shè)計(jì)
        2.3.1 控制系統(tǒng)的性能要求
        2.3.2 控制系統(tǒng)的總體設(shè)計(jì)
        2.3.3 控制系統(tǒng)硬件的設(shè)計(jì)與選型
    2.4 本章小結(jié)
3 運(yùn)動(dòng)學(xué)和拋光力學(xué)模型構(gòu)建
    3.1 引言
    3.2 仿生構(gòu)型設(shè)計(jì)
    3.3 拋光機(jī)器人運(yùn)動(dòng)學(xué)分析
        3.3.1 機(jī)器人運(yùn)動(dòng)學(xué)正解
        3.3.2 機(jī)器人運(yùn)動(dòng)學(xué)逆解
    3.4 拋光力學(xué)模型
    3.5 本章小結(jié)
4 虛擬仿真和實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
    4.1 引言
    4.2 ADAMS中拋光機(jī)器人的模型
    4.3 仿真實(shí)驗(yàn)分析
        4.3.1 接觸模型的建立
        4.3.2 仿真分析
    4.4 拋光實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析
        4.4.1 標(biāo)定實(shí)驗(yàn)
        4.4.2 拋光正壓力控制實(shí)驗(yàn)的研究
        4.4.3 拋光正壓力實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)及結(jié)果的分析
    4.5 本章小結(jié)
5 基于強(qiáng)化學(xué)習(xí)的控制策略
    5.1 引言
    5.2 深度Q學(xué)習(xí)算法
        5.2.1 控制策略的馬爾科夫建模
        5.2.2 深度Q學(xué)習(xí)策略控制
    5.3 基于強(qiáng)化學(xué)習(xí)的拋光控制策略
        5.3.1 拋光環(huán)境模型的設(shè)計(jì)
        5.3.2 拋光恒力控制策略
    5.4 本章小結(jié)
結(jié)論與展望
參考文獻(xiàn)
附錄 A
作者簡(jiǎn)歷及攻讀碩士學(xué)位期間取得的研究成果



本文編號(hào)：3865986