材料科學和材料工業(yè)技術(shù)的發(fā)展對于國家當代科學技術(shù)發(fā)展具有重要的意義,真空鍍膜技術(shù)是材料科學和材料工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域的一個重要的分支。真空鍍膜技術(shù)具有百年的發(fā)展歷史背景,在目前依然具有良好的發(fā)展前景,在工業(yè)領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用,如建筑五金業(yè)、小五金業(yè)、制表業(yè)等等。真空鍍膜設(shè)備是實現(xiàn)真空鍍膜技術(shù)的平臺而其控制系統(tǒng)是整個裝置的調(diào)試和運行平臺,負責整個鍍膜工藝的實現(xiàn)過程,是真空鍍膜設(shè)備中的重要組成部分。伴隨真空鍍膜技術(shù)的日益成熟和工藝水平的逐步提高,對真空鍍膜設(shè)備控制系統(tǒng)的技術(shù)要求也越來越高,從早期的手動控制逐漸發(fā)展到基于工業(yè)計算機的全自動控制,并對人機界面的友好性和系統(tǒng)運行的可靠性有了更高的要求。真空鍍膜設(shè)備PIS-212是由安徽純源真空鍍膜科技有限公司自主設(shè)計、生產(chǎn)的高性能純離子鍍膜設(shè)備,對控制系統(tǒng)提出了用戶權(quán)限劃分、真空系統(tǒng)快速抽氣和安全保護、可靈活配置的復(fù)雜工藝流程控制、步長短至0.1ms的高速二維掃描、全面的工藝流程監(jiān)控、全面詳盡的日志系統(tǒng)和支持Excel文件格式等技術(shù)要求。通過對國內(nèi)外真空鍍膜產(chǎn)品控制系統(tǒng)的調(diào)研,選擇了基于C/S模型的上下位機硬件控制結(jié)構(gòu)和基于Lab Windows/CVI的... 

【文章來源】：中國科學技術(shù)大學安徽省 211工程院校 985工程院校

【文章頁數(shù)】：69 頁

【學位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
ABSTRACT
第一章 緒論
    1.1 真空鍍膜技術(shù)介紹
        1.1.1 蒸發(fā)鍍膜
        1.1.2 濺射鍍膜
        1.1.3 離子鍍膜
    1.2 國內(nèi)外真空鍍膜設(shè)備及其控制系統(tǒng)
        1.2.1 北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜設(shè)備
        1.2.2 中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司的真空鍍膜設(shè)備
        1.2.3 德國萊寶公司的真空鍍膜設(shè)備
        1.2.4 調(diào)研內(nèi)容小結(jié)
    1.3 論文主要內(nèi)容和章節(jié)安排
第二章 真空鍍膜設(shè)備PIS-212及其技術(shù)要求
    2.1 真空鍍膜設(shè)備PIS-212介紹
    2.2 PIS-212控制系統(tǒng)技術(shù)要求
第三章 Lab Windows/CVI開發(fā)平臺
    3.1 Lab Wi ndows/CVI平臺介紹
    3.2 基于Lab Windows/CVI平臺的程序設(shè)計基礎(chǔ)
        3.2.1 基于Lab Windows/CVI平臺的項目結(jié)構(gòu)
        3.2.2 基于Lab Windows/CVI平臺的界面設(shè)計
        3.2.3 基于Lab Windows/CVI平臺的回調(diào)函數(shù)
    3.3 Lab Wi ndows/CVI平臺的高級程序設(shè)計技術(shù)
        3.3.1 基于Lab Windows/CVI平臺的多線程技術(shù)
        3.3.2 基于Lab Windows/CVI平臺的Excel編程技術(shù)
第四章 真空鍍膜設(shè)備PIS-212控制系統(tǒng)開發(fā)
    4.1 PIS-212控制系統(tǒng)的硬件設(shè)計
    4.2 PIS-212控制系統(tǒng)的軟件設(shè)計
    4.3 PIS-212控制系統(tǒng)的軟件開發(fā)
        4.3.1 用戶登錄模塊
        4.3.2 主控界面模塊
        4.3.3 操作模式模塊
        4.3.4 系統(tǒng)管理模塊
        4.3.5 運行控制模塊
第五章 結(jié)論和展望
    5.1 結(jié)論
    5.2 展望
參考文獻
致謝
在學期間取得的學術(shù)成果


【參考文獻】：
期刊論文
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