薄層電導(dǎo)率渦流傳感器線圈的分析與優(yōu)化設(shè)計
發(fā)布時間:2021-05-27 11:15
目前,四探針法是檢測ITO薄膜電導(dǎo)率的常用方法,但其測量薄膜時,對薄膜有不可逆的破壞性。非接觸渦流電導(dǎo)率檢測方法是更好的選擇,其中高靈敏渦流檢測線圈的設(shè)計至關(guān)重要。為此,本文利用Maxwell有限元軟件,通過構(gòu)建不同參數(shù)的帶磁罐的線圈模型,采用分析探頭線圈的實部電壓響應(yīng)曲線的方法,開展渦流檢測傳感器探頭線圈的仿真分析、優(yōu)化設(shè)計工作,并采用實驗法對其進(jìn)行驗證。主要的研究工作和結(jié)論如下:(1)完成了線圈結(jié)構(gòu)參數(shù)的分析與優(yōu)化設(shè)計。在仿真分析線圈結(jié)構(gòu)、被測物尺寸、檢測距離、頻率等因素對線圈的磁場分布、響應(yīng)曲線及品質(zhì)因數(shù)影響的基礎(chǔ)上,完成了線圈的優(yōu)化設(shè)計工作。研究結(jié)果表明:線圈激勵頻率為300kHz時,平面線圈匝數(shù)為20匝,線徑為0.3mm,檢測距離為1mm時的電壓響應(yīng)曲線線性度最優(yōu),相比優(yōu)化前的線圈品質(zhì)因數(shù)提高了5%;螺旋線圈層數(shù)為3層,每層8匝,線徑為0.2mm,檢測距離為1.5mm時的電壓響應(yīng)曲線線性度最優(yōu),相比優(yōu)化前的線圈品質(zhì)因數(shù)提高了85%。(2)開展了磁罐尺寸、電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率對線圈阻抗和響應(yīng)靈敏度影響的研究。仿真結(jié)果表明:線圈激勵頻率為300kHz時,增加磁路的寬度和減小磁路的長度均...
【文章來源】:西安理工大學(xué)陜西省
【文章頁數(shù)】:77 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
1 緒論
1.1 研究背景和意義
1.2 渦流技術(shù)的研究進(jìn)展
1.2.1 國外研究進(jìn)展
1.2.2 國內(nèi)研究進(jìn)展
1.3 本文的主要研究內(nèi)容和結(jié)構(gòu)
2 渦流檢測基本原理
2.1 渦流檢測的基本概念和原理
2.1.1 渦流檢測原理
2.1.2 渦流檢測等效電路
2.1.3 趨膚效應(yīng)和趨膚深度
2.1.4 渦流強度和激勵頻率的關(guān)系
2.1.5 渦流強度和檢測距離的關(guān)系
2.2 二維電磁場基本理論
2.2.1 麥克斯韋方程組
2.2.2 位函數(shù)的引入
2.2.3 電磁場中的邊界條件
2.3 本章小結(jié)
3 渦流傳感器探頭線圈的優(yōu)化設(shè)計
3.1 探頭線圈有限元建模及分析
3.1.1 電磁場有限元仿真軟件
3.1.2 有限元算法
3.1.3 建模和仿真方法
3.1.4 電磁場后處理
3.2 平面繞法的探頭線圈優(yōu)化設(shè)計
3.2.1 激勵頻率的確定
3.2.2 線圈匝數(shù)的確定
3.2.3 線圈線徑的確定
3.3 螺旋繞法的探頭線圈優(yōu)化設(shè)計
3.3.1 激勵頻率的確定
3.3.2 線圈高度和層數(shù)的確定
3.3.3 線圈線徑的確定
3.4 線圈繞法對檢測結(jié)果的影響
3.4.1 磁感應(yīng)強度和電場分布
3.4.2 不同電導(dǎo)率下的電壓響應(yīng)
3.4.3 被測物尺寸對電壓響應(yīng)的影響
3.4.4 檢測距離對檢測結(jié)果的影響
3.5 本章小結(jié)
4 磁罐對渦流探頭性能的影響
4.1 鐵氧體材料
4.2 磁罐尺寸的分析
4.2.1 磁罐尺寸對線圈阻抗的影響
4.2.2 磁罐尺寸對線圈電壓的影響
4.3 磁罐電導(dǎo)率的分析
4.3.1 磁罐電導(dǎo)率對線圈阻抗的影響
4.3.2 磁罐電導(dǎo)率對線圈電壓的影響
4.3.3 磁罐電導(dǎo)率對磁罐損耗的影響
4.4 磁罐磁導(dǎo)率的分析
4.4.1 磁罐磁導(dǎo)率對線圈阻抗的影響
4.4.2 磁罐磁導(dǎo)率對線圈電壓的影響
4.5 本章小結(jié)
5 渦流探頭的實驗驗證
5.1 探頭線圈Q值測量
5.1.1 頻率對線圈Q值的影響
5.1.2 匝數(shù)對線圈Q值的影響
5.1.3 線徑對線圈Q值的影響
5.1.4 磁罐磁導(dǎo)率對線圈Q值的影響
5.2 探頭線圈的性能測試
5.2.1 檢測裝置
5.2.2 標(biāo)準(zhǔn)ITO樣塊
5.2.3 測試傳感器電路
5.3 本章小結(jié)
6 總結(jié)與展望
致謝
參考文獻(xiàn)
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]金屬摻雜ITO透明導(dǎo)電薄膜的制備及應(yīng)用[J]. 文如蓮,胡曉龍,梁思煒,王洪. 光學(xué)與光電技術(shù). 2018(05)
[2]超聲波無損檢測技術(shù)應(yīng)用[J]. 趙明. 山東工業(yè)技術(shù). 2017(08)
[3]關(guān)于ITO透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)及應(yīng)用的分析[J]. 張少波. 科技風(fēng). 2017(05)
[4]基于STC單片機的渦流金屬探傷設(shè)備的設(shè)計[J]. 唐敏. 裝備制造技術(shù). 2016(12)
[5]ITO薄膜的研究進(jìn)展[J]. 邱陽,陳玉峰,祖成奎,金揚利. 現(xiàn)代技術(shù)陶瓷. 2016(05)
[6]基于單片機的金屬探測器的設(shè)計[J]. 梁計鋒,張妮. 自動化與儀器儀表. 2016(08)
[7]基于COMSOL有限元法的電渦流傳感器仿真[J]. 徐琳,王恒,黃禎,李伯全,肖逸凱,盛嘉端. 排灌機械工程學(xué)報. 2015(12)
[8]電渦流式接近開關(guān)用鐵氧體磁芯[J]. 杜成虎,董生玉,孫蔣平,申志剛. 磁性材料及器件. 2013(02)
[9]ITO薄膜性能、應(yīng)用及其磁控濺射制備技術(shù)的研究[J]. 吳曉飛,郗雨林. 熱加工工藝. 2013(02)
[10]渦流檢測中提離干擾的抑制[J]. 張玉華,羅飛路,孫慧賢. 計量技術(shù). 2008(06)
博士論文
[1]亞納米精度電渦流傳感器的理論和設(shè)計研究[D]. 王洪波.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2015
碩士論文
[1]環(huán)形結(jié)構(gòu)渦流傳感器的研制[D]. 孫凱.合肥工業(yè)大學(xué) 2010
[2]基于多頻電渦流檢測方法的多參數(shù)測量分析與研究[D]. 陳寧.西安理工大學(xué) 2009
[3]半導(dǎo)體電阻率渦流檢測智能儀器的設(shè)計與實現(xiàn)[D]. 梁容海.西安理工大學(xué) 2009
[4]電渦流傳感器的電磁場仿真分析[D]. 于亞婷.電子科技大學(xué) 2005
[5]帶磁芯渦流傳感器阻抗分析[D]. 吳靜.鄭州大學(xué) 2002
本文編號:3207465
【文章來源】:西安理工大學(xué)陜西省
【文章頁數(shù)】:77 頁
【學(xué)位級別】:碩士
【文章目錄】:
摘要
abstract
1 緒論
1.1 研究背景和意義
1.2 渦流技術(shù)的研究進(jìn)展
1.2.1 國外研究進(jìn)展
1.2.2 國內(nèi)研究進(jìn)展
1.3 本文的主要研究內(nèi)容和結(jié)構(gòu)
2 渦流檢測基本原理
2.1 渦流檢測的基本概念和原理
2.1.1 渦流檢測原理
2.1.2 渦流檢測等效電路
2.1.3 趨膚效應(yīng)和趨膚深度
2.1.4 渦流強度和激勵頻率的關(guān)系
2.1.5 渦流強度和檢測距離的關(guān)系
2.2 二維電磁場基本理論
2.2.1 麥克斯韋方程組
2.2.2 位函數(shù)的引入
2.2.3 電磁場中的邊界條件
2.3 本章小結(jié)
3 渦流傳感器探頭線圈的優(yōu)化設(shè)計
3.1 探頭線圈有限元建模及分析
3.1.1 電磁場有限元仿真軟件
3.1.2 有限元算法
3.1.3 建模和仿真方法
3.1.4 電磁場后處理
3.2 平面繞法的探頭線圈優(yōu)化設(shè)計
3.2.1 激勵頻率的確定
3.2.2 線圈匝數(shù)的確定
3.2.3 線圈線徑的確定
3.3 螺旋繞法的探頭線圈優(yōu)化設(shè)計
3.3.1 激勵頻率的確定
3.3.2 線圈高度和層數(shù)的確定
3.3.3 線圈線徑的確定
3.4 線圈繞法對檢測結(jié)果的影響
3.4.1 磁感應(yīng)強度和電場分布
3.4.2 不同電導(dǎo)率下的電壓響應(yīng)
3.4.3 被測物尺寸對電壓響應(yīng)的影響
3.4.4 檢測距離對檢測結(jié)果的影響
3.5 本章小結(jié)
4 磁罐對渦流探頭性能的影響
4.1 鐵氧體材料
4.2 磁罐尺寸的分析
4.2.1 磁罐尺寸對線圈阻抗的影響
4.2.2 磁罐尺寸對線圈電壓的影響
4.3 磁罐電導(dǎo)率的分析
4.3.1 磁罐電導(dǎo)率對線圈阻抗的影響
4.3.2 磁罐電導(dǎo)率對線圈電壓的影響
4.3.3 磁罐電導(dǎo)率對磁罐損耗的影響
4.4 磁罐磁導(dǎo)率的分析
4.4.1 磁罐磁導(dǎo)率對線圈阻抗的影響
4.4.2 磁罐磁導(dǎo)率對線圈電壓的影響
4.5 本章小結(jié)
5 渦流探頭的實驗驗證
5.1 探頭線圈Q值測量
5.1.1 頻率對線圈Q值的影響
5.1.2 匝數(shù)對線圈Q值的影響
5.1.3 線徑對線圈Q值的影響
5.1.4 磁罐磁導(dǎo)率對線圈Q值的影響
5.2 探頭線圈的性能測試
5.2.1 檢測裝置
5.2.2 標(biāo)準(zhǔn)ITO樣塊
5.2.3 測試傳感器電路
5.3 本章小結(jié)
6 總結(jié)與展望
致謝
參考文獻(xiàn)
【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]金屬摻雜ITO透明導(dǎo)電薄膜的制備及應(yīng)用[J]. 文如蓮,胡曉龍,梁思煒,王洪. 光學(xué)與光電技術(shù). 2018(05)
[2]超聲波無損檢測技術(shù)應(yīng)用[J]. 趙明. 山東工業(yè)技術(shù). 2017(08)
[3]關(guān)于ITO透明導(dǎo)電膜玻璃生產(chǎn)及應(yīng)用的分析[J]. 張少波. 科技風(fēng). 2017(05)
[4]基于STC單片機的渦流金屬探傷設(shè)備的設(shè)計[J]. 唐敏. 裝備制造技術(shù). 2016(12)
[5]ITO薄膜的研究進(jìn)展[J]. 邱陽,陳玉峰,祖成奎,金揚利. 現(xiàn)代技術(shù)陶瓷. 2016(05)
[6]基于單片機的金屬探測器的設(shè)計[J]. 梁計鋒,張妮. 自動化與儀器儀表. 2016(08)
[7]基于COMSOL有限元法的電渦流傳感器仿真[J]. 徐琳,王恒,黃禎,李伯全,肖逸凱,盛嘉端. 排灌機械工程學(xué)報. 2015(12)
[8]電渦流式接近開關(guān)用鐵氧體磁芯[J]. 杜成虎,董生玉,孫蔣平,申志剛. 磁性材料及器件. 2013(02)
[9]ITO薄膜性能、應(yīng)用及其磁控濺射制備技術(shù)的研究[J]. 吳曉飛,郗雨林. 熱加工工藝. 2013(02)
[10]渦流檢測中提離干擾的抑制[J]. 張玉華,羅飛路,孫慧賢. 計量技術(shù). 2008(06)
博士論文
[1]亞納米精度電渦流傳感器的理論和設(shè)計研究[D]. 王洪波.中國科學(xué)技術(shù)大學(xué) 2015
碩士論文
[1]環(huán)形結(jié)構(gòu)渦流傳感器的研制[D]. 孫凱.合肥工業(yè)大學(xué) 2010
[2]基于多頻電渦流檢測方法的多參數(shù)測量分析與研究[D]. 陳寧.西安理工大學(xué) 2009
[3]半導(dǎo)體電阻率渦流檢測智能儀器的設(shè)計與實現(xiàn)[D]. 梁容海.西安理工大學(xué) 2009
[4]電渦流傳感器的電磁場仿真分析[D]. 于亞婷.電子科技大學(xué) 2005
[5]帶磁芯渦流傳感器阻抗分析[D]. 吳靜.鄭州大學(xué) 2002
本文編號:3207465
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