一種基于RC振蕩器的片上溫度傳感器設(shè)計(jì)
【圖文】:
杭州電子科技大學(xué)碩士學(xué)位論文第二章 CMOS 溫度傳感器設(shè)計(jì)的基本理論件的基本原理件的基本工作原理示是 NMOS 管的簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)示意圖。襯底是 p 型材料,NMO的兩個(gè)重?fù)诫s n 區(qū),用 n+表示。柵極材料是重?fù)诫s、導(dǎo)電層薄的氧化物 SiO2隔離。柵極氧化層下的襯底區(qū)就是器件漏端的柵尺寸用 L 表示,稱為柵長(zhǎng),而與它垂直方向上的柵 W 是 CMOS 集成電路中兩個(gè)重要的設(shè)計(jì)參數(shù)。
理想 I-V 特性,DSV 表示漏極和源極之間的電壓,GSV 表示柵-V 特性主要分為以下 3 個(gè)區(qū)域:,導(dǎo)電溝道未形成,MOS 器件處于截止區(qū),沒(méi)有THV 時(shí),器件工作在線性區(qū),也稱為三極管區(qū)。2D n OX GS TH DS DS1[( - ) ]2WI C V V V VL 的遷移率,OXC 表示單位面積的柵氧化層電容,動(dòng)電壓。此時(shí),電流DI 隨著GSV 的增大而增加。,并且在DS GS THV V V時(shí),電流達(dá)到最大值。TH V時(shí),器件工作在飽和區(qū),此時(shí) 相對(duì)恒定,2D n OX GS TH1( - )2WI C V VL ,此時(shí)DI 與DSV 無(wú)關(guān)。管的理想 I-V 特性示意圖。
【學(xué)位授予單位】:杭州電子科技大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號(hào)】:TP212.11
【參考文獻(xiàn)】
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10 孫其博;劉杰;黎,
本文編號(hào):2574466
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