本文關鍵詞：電感耦合等離子質譜儀取樣錐后分析離子空間傳遞行為的探討

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【摘要】：為更好的理解困擾電感耦合等離子質譜儀(ICP-MS)分析靈敏度提高的基質干擾問題,利用激光誘導熒光技術,考察了鋇離子和鈣離子在ICP-MS取樣錐后的質量控制傳遞行為。通過比較分析離子在取樣錐孔口及后端的徑向分布,探討了ICP功率、霧化氣流速及基質干擾對取樣錐后分析離子空間分布的影響。結果表明:取樣錐孔口鈣離子與鋇離子分布類似,但取樣錐后擴散狀況與其相對原子質量有關,相對原子質量小的元素徑向擴散更快,因此儀器檢測靈敏度較低;霧化氣流速越大,分析離子的傳遞效率越低,因此更高的進樣速率在ICP-MS應用中不一定對應更高的檢測靈敏度;分析離子徑向分布及數(shù)量也受基質組分影響,基質干擾降低了取樣錐后中心軸線上的分析離子數(shù)量,使其徑向分布變得更扁平,通過截取錐的概率更低,最終使得分析離子的信號降低。
【作者單位】： 濰坊學院化學化工與環(huán)境工程學院;環(huán)境保護部標準樣品研究所;
【關鍵詞】： 電感耦合等離子體質譜儀 取樣錐 質量控制傳遞 功率 霧化氣流速 基質干擾
【基金】：2012年度國家環(huán)境保護標準制修訂項目(2012-60)
【分類號】：TH843;O657.63
【正文快照】： 高純樣品在高科技領域,特別是環(huán)境、冶金、材料等方面應用不斷發(fā)展,對痕量雜質金屬含量的分析要求也越來越高[1]。電感耦合等離子體質譜法(ICP-MS)是檢測復雜樣品體系中痕量和超痕量元素的一種分析技術,具有檢出限低、精密度好、線性范圍寬及多元素同時測定等特性,在痕量元素

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【相似文獻】

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本文編號：872455