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X射線干涉光刻光束線偏轉鏡系統(tǒng)的設計與測試

發(fā)布時間:2017-09-09 09:06

  本文關鍵詞:X射線干涉光刻光束線偏轉鏡系統(tǒng)的設計與測試


  更多相關文章: 上海同步輻射光源 X射線干涉光刻 偏轉鏡 結構設計 精度測試


【摘要】:介紹了上海光源X射線干涉光刻(XIL)光束線的基本情況。為實現(xiàn)光束線的光束偏轉和光路切換,完成了其偏轉鏡系統(tǒng)的研制。分析了偏轉鏡系統(tǒng)的功能,設計了偏轉鏡的調(diào)節(jié)機構、切換機構和冷卻結構。論述了調(diào)節(jié)機構的關鍵運動,即鏡箱外直線運動轉化為超高真空內(nèi)旋轉運動的實現(xiàn)過程;討論了切換機構重復精度與承載能力之間的關系,并完成了精密絲桿的校核。采用鏡子支撐方式和冷卻方式集成的方案設計了冷卻結構,并通過數(shù)值模擬分析了冷卻結構和冷卻效果。模擬結果表明鏡子子午面形誤差和弧矢面形誤差分別約為6.5rad和7rad。應用激光干涉儀和光電自準直儀對調(diào)節(jié)機構和切換機構進行了測試,結果表明:調(diào)節(jié)機構的線性分辨力可達0.2μm,切換機構的重復精度滿足設計要求。
【作者單位】: 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所應用光學國家重點實驗室;
【關鍵詞】上海同步輻射光源 X射線干涉光刻 偏轉鏡 結構設計 精度測試
【基金】:國家重大科學工程資助項目 上海光源工程資助項目(No.SS-06) 國家自然科學基金資助項目(No.11079035)
【分類號】:TH74;TN305.7
【正文快照】: 1引言當今世界,納米科技飛速發(fā)展,納米結構的復雜程度、尺寸和性能都在不斷提高。獲得更小特征尺寸的納米結構以及其組裝結構是越來越多科研人員的目標。為了獲得更小特征尺寸的納米結構,科研人員開發(fā)了多種微納加工技術,如電子束直寫光刻、聚焦離子束刻蝕、激光干涉光刻和納

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