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緊湊型光譜薄膜測厚儀的研制

發(fā)布時間:2017-07-31 17:26

  本文關(guān)鍵詞:緊湊型光譜薄膜測厚儀的研制


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【摘要】:為了開發(fā)一種用于測量各向同性均勻薄膜介質(zhì)厚度的緊湊型薄膜測厚儀,采用了共光路垂直入射設(shè)計,利用薄膜干涉原理,通過非線性優(yōu)化算法對反射光譜進行了擬合,反演計算出了薄膜樣品的厚度。采用該儀器測量部分Si O2/Si薄膜樣件,測量結(jié)果與商業(yè)橢偏儀測量結(jié)果之間的相對偏差小于0.5%,而單次測量時間僅為70ms。結(jié)果表明,該薄膜測厚儀具有對測量距離不敏感、光路簡潔、結(jié)構(gòu)緊湊及重復(fù)性精度良好等優(yōu)點,對實現(xiàn)在線實時測量功能具有積極意義。
【作者單位】: 華中科技大學(xué)數(shù)字制造裝備與技術(shù)國家重點實驗室;
【關(guān)鍵詞】測量與計量 光譜薄膜測厚儀 緊湊 逆問題 干涉 不確定度
【基金】:湖北省科技支撐計劃資助項目(2014BEC052) 湖北省自然科學(xué)基金資助項目(2015CFB278) 國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項資助項目(2011YQ160002)
【分類號】:TH821.1
【正文快照】: 引言隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進步,薄膜日益廣泛地應(yīng)用于微電子器件、微光機電系統(tǒng)和光學(xué)元器件等領(lǐng)域[1]。薄膜厚度是顯著影響薄膜力學(xué)、電磁和光電等性能的一個重要參量[2],因此在薄膜制備和分析應(yīng)用中,薄膜厚度的精確測量顯得尤為重要。薄膜的測量方法主要分為非光學(xué)方法和光學(xué)方

【相似文獻】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前2條

1 姚景順,,畢文平,鐘生新;在線薄膜測厚儀[J];電子技術(shù);1995年01期

2 ;[J];;年期



本文編號:600290

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