光學(xué)玻璃磁性復(fù)合流體拋光液研究
本文關(guān)鍵詞:光學(xué)玻璃磁性復(fù)合流體拋光液研究
更多相關(guān)文章: 光學(xué)制造 磁性復(fù)合流體 拋光 正壓力 表面粗糙度
【摘要】:根據(jù)光學(xué)玻璃元件超精密拋光加工技術(shù)的需求,研究了磁性復(fù)合流體(MCF)拋光液成分配比及制備,并在此基礎(chǔ)上結(jié)合不同拋光工藝參數(shù)實(shí)驗(yàn)分析BK7光學(xué)玻璃的拋光質(zhì)量。研究不同成分配比下的磁性復(fù)合拋光頭的物理表現(xiàn),在MCF各成分質(zhì)量分?jǐn)?shù)為鐵粉55%、水30%、氧化鈰12%以及α-纖維素3%時(shí),獲得形狀及穩(wěn)定性最佳的MCF拋光頭;采用該比例配制的MCF在自行研制的MCF拋光設(shè)備上對(duì)BK7玻璃進(jìn)行定點(diǎn)拋光,對(duì)MCF拋光頭正壓力及BK7玻璃拋光后的表面粗糙度進(jìn)行研究。通過實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)分析發(fā)現(xiàn)拋光正壓力隨主軸轉(zhuǎn)速的增大而增大,隨磁鐵偏心距的增大而減小,經(jīng)過50min定點(diǎn)拋光,表面粗糙度從10.2nm降低到6.7nm。上述結(jié)果表明所制備MCF滿足光學(xué)玻璃超精密拋光加工的需求。
【作者單位】: 上海理工大學(xué)機(jī)械工程學(xué)院;
【關(guān)鍵詞】: 光學(xué)制造 磁性復(fù)合流體 拋光 正壓力 表面粗糙度
【基金】:國家自然科學(xué)基金(51475310) 高等學(xué)校博士學(xué)科點(diǎn)專項(xiàng)科研基金(20133120120005) 上海市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)資助項(xiàng)目(13ZR1428000)
【分類號(hào)】:TQ171.684;TH74
【正文快照】: 1引言光學(xué)玻璃元件是各類高精密光電系統(tǒng)不可或缺的關(guān)鍵組件,軍用方面如激光器、熱成像等裝置的透鏡、飛行器的光學(xué)頭罩等;其在醫(yī)療和民用光電儀器中也被廣泛應(yīng)用,如眼球內(nèi)置鏡、數(shù)碼相機(jī)、光盤讀寫裝置、高品質(zhì)投影儀等[1]。但光學(xué)玻璃元件的超精密制造仍然存在一些技術(shù)問題,
【相似文獻(xiàn)】
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本文編號(hào):551028
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