發(fā)布時(shí)間：2025-05-12 22:29

　　 針對(duì)位相測(cè)量偏折術(shù)(phase measuring deflectometry,PMD)在光學(xué)元件面形的高精度檢測(cè)中存在面形低階誤差控制困難等問(wèn)題,介紹了位相測(cè)量偏折術(shù)檢測(cè)平面光學(xué)元件面形的基本原理,對(duì)有關(guān)PMD技術(shù)的面形改進(jìn)重建算法、相對(duì)檢測(cè)和四步剪切的系統(tǒng)誤差扣除方法的研究進(jìn)展進(jìn)行了闡述,分析了基于PMD技術(shù)實(shí)現(xiàn)對(duì)口徑398.7 mm×422.8 mm平板玻璃的拼接檢測(cè)以及平面元件中可能存在的寄生反射影響的消除方法。指出建立的6相機(jī)斜率拼接檢測(cè)系統(tǒng)的檢測(cè)精度RMS可達(dá)1μm,利用多頻條紋法和二值條紋法可有效地消除寄生反射的影響,為大口徑光學(xué)平面元件的前、后表面面形高精度檢測(cè)提供一種可行的方案。

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本文編號(hào)：4045320