畸變是表征光學(xué)系統(tǒng)成像失真的像差之一,本質(zhì)是光信息的幾何錯(cuò)位。大視場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)很難控制畸變,可以通過(guò)圖像校正的方法降低畸變的影響。在原子分子物理、固體物理、生物醫(yī)學(xué)、應(yīng)用光學(xué)等科研領(lǐng)域,激光系統(tǒng)、光譜儀等實(shí)驗(yàn)儀器廣泛應(yīng)用畸變校正技術(shù)�？煽啃ＵY(jié)果的獲取依賴于光學(xué)系統(tǒng)畸變的精確測(cè)量,畸變測(cè)量精度直接決定校正精度。目前常規(guī)光學(xué)系統(tǒng)的畸變測(cè)量精度數(shù)量級(jí)多數(shù)為10^-3,無(wú)法滿足要求較高的光學(xué)實(shí)驗(yàn)儀器的測(cè)量需求,因此開(kāi)展10^-4以上高精度的畸變測(cè)量研究工作十分必要。本文針對(duì)高精度光學(xué)系統(tǒng)畸變測(cè)量展開(kāi)研究,具體內(nèi)容如下。首先,從理論上分析畸變產(chǎn)生的原因,并闡述論證了不同畸變測(cè)量方法的測(cè)量原理,結(jié)合高精度測(cè)量要求,最終選擇基于轉(zhuǎn)角法展開(kāi)高精度畸變測(cè)量的研究。其次,基于轉(zhuǎn)角法原理開(kāi)展了測(cè)量誤差分析,得出測(cè)角誤差、測(cè)長(zhǎng)誤差兩大類主要誤差源,并基于0.01%的指標(biāo)要求完成了詳細(xì)的誤差分配。依靠算法優(yōu)化保證誤差分配選定的實(shí)驗(yàn)?zāi)K穩(wěn)定精密地獲取實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。再次,基于誤差分配開(kāi)展了高精度畸變測(cè)量?jī)x器的詳細(xì)設(shè)計(jì),詳細(xì)闡述了以誤差優(yōu)化為前提的硬件設(shè)計(jì)和算法優(yōu)化方案,具體包括基于...

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【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖1.4畸變測(cè)試系統(tǒng)專利申請(qǐng)人排名

第1章緒論1.3國(guó)內(nèi)申請(qǐng)專利統(tǒng)計(jì)畸變測(cè)量實(shí)驗(yàn)儀器專利數(shù)據(jù)來(lái)源于國(guó)家專利局?jǐn)?shù)據(jù)庫(kù)�；儨y(cè)量設(shè)備專利申請(qǐng)方面，一般分為兩類。一類為采用經(jīng)典理論直接測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)畸變；另一類為以算法校正為基礎(chǔ)，采集校正所需要的信息，根據(jù)算法不同采集信息差異不同。根據(jù)統(tǒng)計(jì)可以得出，如圖1.4所....

圖1.5畸變測(cè)試系統(tǒng)專利申請(qǐng)趨勢(shì)

其他高校、科研院所、科技公司也有少量專利；如圖1.5所示，授權(quán)專利數(shù)量隨著時(shí)間整體呈現(xiàn)正相關(guān)趨勢(shì)，但是近兩年專利有所下降；如圖1.6所示，國(guó)內(nèi)該類型專利以發(fā)明專利為主。圖1.4畸變測(cè)試系統(tǒng)專利申請(qǐng)人排名

圖1.6畸變測(cè)試系統(tǒng)專利類型

圖1.6畸變測(cè)試系統(tǒng)專利類型.4本文研究結(jié)構(gòu)本文第二章以光學(xué)理論為基礎(chǔ)，從設(shè)計(jì)到加工、檢測(cè)進(jìn)行研究分析。對(duì)畸量理論進(jìn)行闡述，分析了幾種畸變測(cè)量方法的特點(diǎn)，經(jīng)過(guò)分析選定轉(zhuǎn)角法為測(cè)量方法，明確誤差分配方向。

圖2.1畸變類型對(duì)比

限遠(yuǎn)物距遠(yuǎn)像距系統(tǒng)~tan100%yqy角放大率，無(wú)量綱，0=lim限遠(yuǎn)物距遠(yuǎn)像距系統(tǒng)yyy。為橫向放大率，無(wú)量綱。1100%yqy,liyL于光學(xué)系統(tǒng)存在畸變，物平面上一個(gè)正方....

本文編號(hào)：4007341