發(fā)布時(shí)間：2023-10-15 15:07

　　面向強(qiáng)光光學(xué)元件的低損傷制造,概述了關(guān)聯(lián)激光損傷性能的損傷前驅(qū)體檢測(cè)表征方法,提出納米尺度污染與化學(xué)結(jié)構(gòu)缺陷等損傷前驅(qū)體是低損傷加工過(guò)程需要關(guān)注的焦點(diǎn);結(jié)合光學(xué)元件加工方法的發(fā)展進(jìn)程,探討了基于化學(xué)輔助磁流變拋光和離子束濺射清洗技術(shù)的納米損傷前驅(qū)體的抑制方法,以有效減少納米級(jí)污染和化學(xué)結(jié)構(gòu)缺陷;提出強(qiáng)光光學(xué)元件制造面臨的三個(gè)挑戰(zhàn),為實(shí)現(xiàn)強(qiáng)光光學(xué)元件清潔制造提供參考。

【文章頁(yè)數(shù)】：10 頁(yè)

【文章目錄】：
0 引言
1 強(qiáng)光元件納米損傷前驅(qū)體的檢測(cè)表征技術(shù)
2 強(qiáng)光元件加工方法發(fā)展進(jìn)程
3 強(qiáng)光元件加工方法新發(fā)展
4 面臨的挑戰(zhàn)
5 結(jié)論



本文編號(hào)：3854138