為什么檢出限在金屬質(zhì)量控制中非常重要
發(fā)布時(shí)間:2021-10-11 18:56
<正>日立新型OE750火花光譜儀能夠以非常低的檢出限測(cè)量整個(gè)金屬元素譜。對(duì)于我們?nèi)樟⒎治鰞x器而言,該功能是OE750開(kāi)發(fā)團(tuán)隊(duì)的目標(biāo),為此,我們最終開(kāi)發(fā)構(gòu)思了一個(gè)全新的光學(xué)概念,并采用了不同的探測(cè)器技術(shù)。我們認(rèn)為檢測(cè)限全面低于10ppm或高于1ppm(取決于應(yīng)用和元素)對(duì)于當(dāng)今的金屬質(zhì)量控制至關(guān)重要。以下是對(duì)檢出限為何如此重要的原因的闡述。
【文章來(lái)源】:冶金分析. 2020,40(02)北大核心
【文章頁(yè)數(shù)】:1 頁(yè)
【文章目錄】:
殘留元素的識(shí)別和控制
痕量元素的控制
控制熔體化學(xué)性質(zhì)
符合ASTM標(biāo)準(zhǔn)的要求
本文編號(hào):3431070
【文章來(lái)源】:冶金分析. 2020,40(02)北大核心
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殘留元素的識(shí)別和控制
痕量元素的控制
控制熔體化學(xué)性質(zhì)
符合ASTM標(biāo)準(zhǔn)的要求
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