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基于磨粒磨損機(jī)制的光學(xué)元件快速拋光關(guān)鍵技術(shù)研究

發(fā)布時(shí)間:2020-06-15 07:31
【摘要】:光學(xué)元件在激光核聚變裝置、天文望遠(yuǎn)鏡、醫(yī)療影像設(shè)備等涉及國家安全與國防領(lǐng)域中得到廣泛的應(yīng)用,目前我國光學(xué)元件的高精密及批量化加工水平與世界先進(jìn)國家之間還有差距,而如何進(jìn)行大批量的高效精密加工,是我國大型光學(xué)工程所面臨的核心問題。在傳統(tǒng)光學(xué)元件拋光加工流程中,初拋與環(huán)拋所耗時(shí)間最多,不能滿足大型光學(xué)工程的需求,快速拋光技術(shù)以其相對(duì)較高的材料去除率,已經(jīng)全面取代了初拋,部分取代了環(huán)形拋光,因此,研究快速拋光技術(shù)的相關(guān)內(nèi)容刻不容緩。本文從快速拋光運(yùn)動(dòng)模型出發(fā),宏觀上,研究并建立了基于Preston方程的快速拋光技術(shù)去除函數(shù)模型,微觀上,基于磨粒磨損去除機(jī)理建立了材料去除微觀模型,以期減少拋光加工時(shí)間,實(shí)現(xiàn)確定性拋光,保證光學(xué)元件批量生產(chǎn):同時(shí)研究了快速拋光中元件的邊緣效應(yīng),實(shí)現(xiàn)了光學(xué)元件面型精度收斂的控制技術(shù),以此降低光學(xué)元件面型誤差。本論文研究內(nèi)容包括以下幾點(diǎn):1.分析了快速拋光光學(xué)元件和拋光盤的相對(duì)運(yùn)動(dòng),建立了快速拋光技術(shù)三種運(yùn)動(dòng)方式下的數(shù)學(xué)模型,同時(shí)對(duì)快速拋光光學(xué)元件半徑上各點(diǎn)的相對(duì)速度和偏心距對(duì)材料去除率影響進(jìn)行了分析。2.建立了快速拋光技術(shù)三種運(yùn)動(dòng)方式下的速度分布模型,基于ANSYS仿真建立了接觸區(qū)的壓力分布模型,根據(jù)所建立的速度和壓力分布模型得到了三種運(yùn)動(dòng)模型下的去除函數(shù)模型。3.分析光學(xué)元件快速拋光材料去除機(jī)制基礎(chǔ)上,從單顆磨粒受力和拋光墊峰點(diǎn)捕獲的磨粒數(shù)出發(fā),獲得量化的單顆磨粒瞬時(shí)切除體積和拋光區(qū)介入去除材料的磨粒數(shù),從而建立一種快速拋光材料去除模型。通過正交實(shí)驗(yàn),驗(yàn)證了所得到的光學(xué)元件快速拋光材料去除模型的正確性。4.針對(duì)光學(xué)元件拋光后邊緣效應(yīng)現(xiàn)象及成因,提出“犧牲補(bǔ)償式”加工方法改善光學(xué)元件面型,基于此方法,通過ANSYS軟件分別就補(bǔ)償片分布方式及個(gè)數(shù)、補(bǔ)償片與光學(xué)元件之間距離對(duì)光學(xué)元件表面應(yīng)力峰值和最低值的影響情況進(jìn)行仿真,經(jīng)過實(shí)驗(yàn)證明所建立模型是正確的,實(shí)現(xiàn)元件面型精度控制技術(shù)。
【學(xué)位授予單位】:廈門大學(xué)
【學(xué)位級(jí)別】:碩士
【學(xué)位授予年份】:2017
【分類號(hào)】:TH74
【圖文】:

點(diǎn)火裝置,激光核聚變,領(lǐng)域,元件


課題研究意義逡逑學(xué)元件(如圖1.3所示)在激光核聚變裝置、紅外熱成像、天文望遠(yuǎn)像設(shè)備等涉及國家安全與國防領(lǐng)域中得到了日益廣泛的應(yīng)用[3<,一學(xué)元件的材料及應(yīng)用領(lǐng)域如表1.1所示。逡逑圖1.3光學(xué)元件逡逑

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課題研究意義逡逑學(xué)元件(如圖1.3所示)在激光核聚變裝置、紅外熱成像、天文望遠(yuǎn)像設(shè)備等涉及國家安全與國防領(lǐng)域中得到了日益廣泛的應(yīng)用[3<,一學(xué)元件的材料及應(yīng)用領(lǐng)域如表1.1所示。逡逑圖1.3光學(xué)元件逡逑

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本文編號(hào):2714097

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