基于瞳面干涉的自參考干涉儀的研制
[Abstract]:In order to achieve overlapping interference of diffracted light produced by alignment mark with simpler optical devices, and to reduce the difficulty of processing and adjusting the alignment system, a self-reference interferometer system based on pupil interference is designed. Firstly, the alignment technology used in lithography machine is studied. Based on the principle of grating diffraction and polarization optics, a self-reference interferometer using Koster prism as optical device is proposed. Finally, linear CCD is used to collect the signal and the data is processed by computer. Because the measuring system of self-reference interferometer takes the grating distance as the measuring reference, instead of using laser wavelength, the measurement error caused by environmental factors is less affected by the measuring system. The experimental results show that the resolution of the system is 0.2 nm, which makes the system achieve nanometer resolution. It is proved that the designed interferometer can be used in the alignment system of the front lithography machine at present, and the alignment measurement of nanometer precision can be realized, so that the engraving accuracy of the lithography equipment can meet the requirements of the latest process nodes.
【作者單位】: 上海理工大學(xué)光電信息與計(jì)算機(jī)工程學(xué)院;
【基金】:滬江基金(C14002)項(xiàng)目資助
【分類號(hào)】:TH744.3
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,本文編號(hào):2480675
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