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調(diào)節(jié)力對(duì)偏心調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)中透鏡面形的影響

發(fā)布時(shí)間:2018-01-14 08:33

  本文關(guān)鍵詞:調(diào)節(jié)力對(duì)偏心調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)中透鏡面形的影響 出處:《中國(guó)激光》2014年07期  論文類型:期刊論文


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【摘要】:針對(duì)深紫外光刻投影物鏡的像質(zhì)補(bǔ)償要求,對(duì)偏心調(diào)節(jié)時(shí)的透鏡進(jìn)行受力分析,基于柔度矩陣法設(shè)計(jì)了一種柔性多彈片透鏡支撐結(jié)構(gòu),研究了透鏡面形隨調(diào)節(jié)力的變化規(guī)律,采用有限元法分析了調(diào)節(jié)力與透鏡面形峰谷(PV)值、均方根(RMS)值和Fringe Zernike多項(xiàng)式系數(shù)之間的關(guān)系。計(jì)算結(jié)果表明:調(diào)節(jié)時(shí)通過(guò)降低調(diào)節(jié)力的大小,可以控制面形劣化程度。采用具有吸收調(diào)節(jié)力功能的柔性支撐結(jié)構(gòu)后,在50N的驅(qū)動(dòng)力偏心調(diào)節(jié)時(shí),透鏡上表面面形PV值和RMS值分別為2.704nm和0.528nm,透鏡下表面面形PV值和RMS值分別為2.984nm和0.571nm。透鏡面形的PV值、RMS值及Fringe Zernike多項(xiàng)式系數(shù)隨調(diào)節(jié)力線性變化,但是調(diào)節(jié)力不會(huì)改變各種像差的性質(zhì),它引入的透鏡像差主要為像散。
[Abstract]:For deep ultraviolet lithography projection lens aberration compensation requirement, analyze the stress on the lens in eccentric adjusting, flexibility matrix method based on a flexible multi lens support structure design of shrapnel, studied the lens surface with the adjusting force, using finite element method to analyze the regulation of force and lens surface peak the valley (PV) value, root mean square (RMS) and the relationship between the values of Fringe Zernike polynomial coefficient. The calculation results show that the adjustment by reducing adjusting the size of the force, can control the surface deterioration. With the absorption of flexible supporting structure adjustment function, the driving force in the eccentric regulation of 50N, surface the surface PV lens and RMS were 2.704nm and 0.528nm, lens surface PV and RMS values were 2.984nm and 0.571nm. lens surface shape of the PV value, RMS value and Fringe Zernike coefficients vary linearly with the adjusting force, but the adjustment The joint force does not change the properties of various aberrations, and the aberration of the lens it introduces is mainly astigmatism.

【作者單位】: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所應(yīng)用光學(xué)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】:國(guó)家科技重大專項(xiàng)基金(2009ZX02205)
【分類號(hào)】:TH74
【正文快照】: 1引言用于極大規(guī)模集成電路(ULSI)制造的深紫外(DUV)光刻投影物鏡的精度要求很高[1-2]。但是,在裝配及長(zhǎng)時(shí)間工作過(guò)程中,會(huì)因自重[3]、裝配應(yīng)力、系統(tǒng)外部振動(dòng)[4]、溫度和氣壓變化[5]等導(dǎo)致光刻系統(tǒng)性能下降。為了補(bǔ)償由上述原因?qū)е碌牟糠皱绮詈拖裆⒌刃D(zhuǎn)不對(duì)稱誤差,通過(guò)調(diào)

【參考文獻(xiàn)】

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【共引文獻(xiàn)】

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【二級(jí)參考文獻(xiàn)】

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【相似文獻(xiàn)】

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