發(fā)布時間：2017-12-03 07:20

  本文關(guān)鍵詞：Mueller矩陣成像偏振儀的誤差標(biāo)定和補(bǔ)償研究

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【摘要】：Mueller矩陣成像偏振儀是測量材料和器件偏振特性的重要儀器,也是測量浸沒光刻機(jī)偏振像差的檢測儀器,該偏振儀由偏振態(tài)產(chǎn)生器和偏振態(tài)分析器組成。其組成中的λ/4波片相位延遲量誤差及其快軸方位角誤差與偏振片透光軸的方位角誤差是影響Mueller矩陣成像偏振儀測量精度的主要誤差源。通過對本課題組研制的Mueller矩陣成像偏振儀中5個主要誤差因素進(jìn)行標(biāo)定和補(bǔ)償,顯著提高了其測量精度。利用傅里葉分析法獲得各項(xiàng)傅里葉系數(shù),并根據(jù)各個誤差與傅里葉系數(shù)的關(guān)系,實(shí)現(xiàn)了這些誤差的標(biāo)定,即達(dá)到對Mueller矩陣成像偏振儀誤差標(biāo)定的目的。根據(jù)標(biāo)定出的誤差大小對Mueller矩陣成像偏振儀進(jìn)行了補(bǔ)償。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,通過對器件參數(shù)誤差標(biāo)定和補(bǔ)償,Mueller矩陣成像偏振儀的測量精度由0.2015提高到0.1051,提高了47.84%。最后用該Mueller矩陣成像偏振儀對一個物鏡系統(tǒng)的偏振像差進(jìn)行了測量,重復(fù)測量精度達(dá)到了1.1%。
【作者單位】： 北京理工大學(xué)光電學(xué)院光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金重點(diǎn)項(xiàng)目(60938003) 國家科技重大專項(xiàng) 北京高等學(xué)校青年英才計劃
【分類號】：TH74
【正文快照】： 1引言隨著光刻機(jī)投影物鏡[1-3]數(shù)值孔徑(NA)的不斷增加,光刻曝光系統(tǒng)引入了偏振照明,然而照明系統(tǒng)和投影物鏡中存在諸多影響光偏振態(tài)的因素,如光學(xué)材料的本征雙折射及應(yīng)力雙折射、膜層的吸收和散射效應(yīng)[4]等,都會導(dǎo)致照明和成像光束的偏振態(tài)發(fā)生變化,從而影響投影物鏡的成像質(zhì)

【相似文獻(xiàn)】

中國期刊全文數(shù)據(jù)庫 前6條

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本文編號：1247889