本文關(guān)鍵詞：次世代微影術(shù)及其非破壞式光學(xué)量測(cè)系統(tǒng)之研究

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【摘要】：正本論文可概分為三部分:1改善用于極紫外光(Extreme ultraviolet,EUV)微影系統(tǒng)之多層膜反射鏡之反射率以及其等效計(jì)算方法;2開發(fā)用于多尺度(multi-scale)電子束直寫(Electron-beam directwrite,EBDW)微影系統(tǒng)之?dāng)?shù)值計(jì)算方法;3開發(fā)非破壞式光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于量測(cè)光阻線(photo-resist lines)之幾何外形與多層膜彩色濾光片(color filter)之光學(xué)性質(zhì)。對(duì)于極紫外光反射鏡之研究,我們?cè)O(shè)計(jì)了以40層鉬/硅多層膜為基底之光子晶體(photonic crystal)反射鏡。從數(shù)值結(jié)果得
【作者單位】： 中國(guó)臺(tái)灣大學(xué);
【分類號(hào)】：TH74
【正文快照】： 本論文可概分為三部分:1改善用于極紫外光(Extreme ultraviolet,EUV)微影系統(tǒng)之多層膜反射鏡之反射率以及其等效計(jì)算方法;2開發(fā)用于多尺度(multi-scale)電子束直寫(Electron-beam directwrite,EBDW)微影系統(tǒng)之?dāng)?shù)值計(jì)算方法;3開發(fā)非破壞式光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)用于量測(cè)光阻線(photo-res

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1 柯俊宏;v鐎V冿;徐得挊;榞逸霞;;光柵式u奬 Wj#之最佳化，

本文編號(hào)：1241849