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硅V型槽表面形貌的OCT可視化測(cè)量

發(fā)布時(shí)間:2017-11-29 17:22

  本文關(guān)鍵詞:硅V型槽表面形貌的OCT可視化測(cè)量


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【摘要】:介紹了一種硅V型槽表面形貌測(cè)量的可視化方法,分析了譜域OCT的測(cè)量原理。利用譜域OCT實(shí)驗(yàn)測(cè)量系統(tǒng)進(jìn)行了硅V型槽的成像實(shí)驗(yàn),得到了硅V型槽的二維層析圖像;通過(guò)分析二維層析圖像,獲取了硅V型槽的結(jié)構(gòu)尺寸,實(shí)現(xiàn)了硅V型槽表面形貌的高精度可視化測(cè)量。
【作者單位】: 渭南師范學(xué)院物理與電氣工程學(xué)院;陜西省X射線檢測(cè)與應(yīng)用研究開發(fā)中心;
【基金】:陜西省教育廳科研計(jì)劃項(xiàng)目(15JK1252,15JK1380) 渭南師范學(xué)院科研計(jì)劃項(xiàng)目(15ZRRC08);渭南師范學(xué)院特色學(xué)科建設(shè)項(xiàng)目(14TSXK07)
【分類號(hào)】:TH74
【正文快照】: 0引言硅V形槽(V-groove)是利用微機(jī)電系統(tǒng)(Micro-electromechanical System,MEMS)工藝制作的主流無(wú)源器件[1]。在光通訊領(lǐng)域,硅V型槽用于光纖陣列(Fiber Array)中的高精度定位,利用高精度三維幾何尺寸的硅V型槽放置光纖,能夠?qū)崿F(xiàn)光電器件間隔的嚴(yán)格匹配,減少光電子器件和光纖

【相似文獻(xiàn)】

中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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2 趙朝夕;直流噴嘴的加工表面形貌及其對(duì)液流噴射影響的研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

3 李晶;光學(xué)曲面表面形貌的重構(gòu)與評(píng)價(jià)[D];長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué);2016年

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7 李小改;表面形貌軟件測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)網(wǎng)絡(luò)化應(yīng)用系統(tǒng)開發(fā)[D];華中科技大學(xué);2008年

8 楊廣義;小波分析方法在表面形貌評(píng)定中的應(yīng)用[D];哈爾濱工程大學(xué);2008年

9 程雄;基于新一代GPS表面形貌評(píng)定方法的研究[D];桂林電子科技大學(xué);2011年

10 翟偉光;晶圓表面形貌的微分干涉系統(tǒng)圖像相位提取及去包裹[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2010年



本文編號(hào):1237545

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