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球面光學零件氣囊拋光工藝參數優(yōu)化的研究

發(fā)布時間:2017-11-18 10:17

  本文關鍵詞:球面光學零件氣囊拋光工藝參數優(yōu)化的研究


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【摘要】:針對球面光學零件,采用氣囊拋光方法對其進行加工,以正交實驗為實驗方法,以球面光學零件材料去除率和表面粗糙度為目標,研究了5個主要影響因素(氣囊壓縮量、氣囊轉速、內部壓力、拋光液濃度和工件曲率半徑)對材料去除率和表面粗糙度的影響程度,并根據實驗結果優(yōu)選工藝參數,找出影響材料去除率和表面粗糙度的工藝參數優(yōu)化組合。以去除率和表面粗糙度為目標工藝參數,在優(yōu)選后的結果指導下,根據優(yōu)選后的工藝參數,以控制表面粗糙度為目標,采用離散進動方式拋光球面光學零件,可獲得超精密的光滑表面。
【作者單位】: 燕山大學機械工程學院;哈爾濱工業(yè)大學機電工程學院;
【分類號】:TH74;TG580.692
【正文快照】: 1球面光學零件氣囊拋光材料去除率正交實驗1.1實驗設計氣囊拋光[1—7]是近十幾年出現(xiàn)的一種新穎的拋光方法,該方法具有高精度、高效率的加工特點,應用前景非常廣闊。本文采用正交實驗[8,9]方法優(yōu)化氣囊拋光工藝參數,所研究的影響因素有氣囊拋光頭轉速、工件曲率半徑、氣囊壓縮

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本文編號:1199434


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