迄今為止,納米加工技術(shù)的進步推動了微納光學天線獲得進一步的深入研究。通過光學天線可在微/納米尺度上實現(xiàn)電磁波包括雷達波和光波的快速共振性響應(yīng)和調(diào)控,為納米特征尺寸的光波感應(yīng)、操控和輸運提供可行途徑,已顯示出廣泛的潛在應(yīng)用前景。聚焦離子束掃描電子顯微鏡系統(tǒng)（FIB-SEM）,以其束能大、加工精度和效率高、微納光學結(jié)構(gòu)的制備工藝相對簡化等特征,在制作微納光學天線方面顯示獨特優(yōu)勢�？紤]到現(xiàn)有FIB-SEM系統(tǒng)的特殊物性,其有效加工尺寸目前仍徘徊在200μm×200μm范圍,已難以滿足多樣化微納光學天線的加工需求,顯著增大FIB-SEM系統(tǒng)的有效刻蝕面積變得尤為迫切和重要。本文圍繞FEI公司生產(chǎn)的Helios NanoLab G3CX雙束FIB-SEM設(shè)備建立改進方案,面向刻蝕厘米級尺寸光學天線的聚焦離子束精密位移加工平臺開展研究工作。論文的主要工作如下:首先,針對在多種材料上刻蝕加工小尺寸微納光學天線所暴露的問題,分析FIB-SEM系統(tǒng)刻蝕加工微納光學天線其外形尺寸受限的主要原因,設(shè)計了可與該系統(tǒng)耦合的小型化精密位移加工平臺方案。通過建立永磁同步電機數(shù)學模型,分析對精密位移加工平臺采用矢量控... 

【文章來源】：華中科技大學湖北省 211工程院校 985工程院校 教育部直屬院校

【文章頁數(shù)】：105 頁

【學位級別】：碩士

【部分圖文】：

金屬極光天線

華 中 科 技 大 學 碩 士 學 位 論 文形發(fā)生系統(tǒng)等。電子光學系統(tǒng)主要包括電子槍、電子透鏡和電子偏轉(zhuǎn)，電子槍發(fā)射的電子束經(jīng)過電子透鏡和電子偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)聚焦形成納米級。真空系統(tǒng)是電子束直寫系統(tǒng)必不可少的一部分[31]。在曝光時，若腔分子，則在形成聚焦電子束的過程中，氣體分子會被電子束電離，導量分散，從而形成像差。工作臺通過激光干涉儀作為位置反饋，從而精確定位。對于大面積圖形曝光，高速圖形發(fā)生系統(tǒng)可以通過圖形分個圖形區(qū)域分解成多個小的區(qū)域，然后分別進行掃描曝光。

由FEI公司FIB-SEM系統(tǒng)外型圖

【參考文獻】：
期刊論文
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本文編號：3415971