具有確定相對(duì)孔徑的光學(xué)系統(tǒng)只能對(duì)有限景深范圍內(nèi)的物體進(jìn)行清晰成像。而超出景深范圍的物體經(jīng)過(guò)兩個(gè)光學(xué)元件的兩次反射之后,聚焦于探測(cè)器靶面,形成超景深鬼像光斑,大大降低了對(duì)比度。利用Code Ⅴ與LightTools軟件對(duì)已產(chǎn)生超景深鬼像的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行了仿真分析,并對(duì)產(chǎn)生超景深鬼像的兩個(gè)光學(xué)元件表面進(jìn)行了定位。仿真結(jié)果與產(chǎn)生的現(xiàn)象能夠?qū)?yīng),證明該方法正確可行,并可用于其他光學(xué)系統(tǒng)。

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【文章目錄】：
0 引言
1 超景深鬼像
2 仿真分析
    2.1 仿真分析方法
    2.2 仿真分析實(shí)例
3 結(jié)論



本文編號(hào)：3788953