高NA光學(xué)系統(tǒng)一般指的是高NA投影光刻物鏡。高NA投影光刻物鏡是光刻機(jī)的核心組成部分,其成像質(zhì)量的好壞決定著最終的光刻性能。偏振像差會(huì)對(duì)高NA光學(xué)投影光刻物鏡成像產(chǎn)生影響,比如降低成像對(duì)比度。為了提高高NA光學(xué)投影光刻物鏡的成像質(zhì)量,除了控制波像差外,還需要優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。研究高NA光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差對(duì)發(fā)展光學(xué)投影光刻技術(shù)有重要意義。本文以NA1.35投影光刻物鏡為例,系統(tǒng)地介紹了光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差理論,分析并優(yōu)化了光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。第一,介紹了偏振像差理論。高NA光學(xué)系統(tǒng)成像采用矢量成像模型描述,利用矢量成像模型引出光學(xué)系統(tǒng)偏振像差的概念。敘述了用瓊斯光瞳描述偏振像差的方法。利用SVD分解將瓊斯光瞳分解為物理光瞳,并將二向衰減和延遲作為偏振像差的評(píng)價(jià)方法。介紹了光學(xué)薄膜特性的計(jì)算方法,并給出了光學(xué)薄膜的瓊斯矩陣,為分析與設(shè)計(jì)膜系提供理論支持。第二,分析了導(dǎo)致光學(xué)系統(tǒng)偏振像差的因素,并推導(dǎo)了相應(yīng)的理論表達(dá)式。第三,分析了常規(guī)膜系NA1.35投影光刻物鏡的偏振像差,并提出了根據(jù)光線的最大入射角度為光學(xué)元件設(shè)計(jì)多層膜系的方法來(lái)優(yōu)化光學(xué)系統(tǒng)的偏振像差。根據(jù)膜系優(yōu)化條件,為每個(gè)光學(xué)面...

【文章頁(yè)數(shù)】：87 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
abstract
第1章 緒論
    1.1 研究背景及意義
        1.1.1 集成電路
        1.1.2 光學(xué)投影光刻
        1.1.3 偏振像差
    1.2 國(guó)內(nèi)外研究現(xiàn)狀
    1.3 論文的研究目的與主要研究?jī)?nèi)容
第2章 偏振像差理論
    2.1 矢量成像
    2.2 偏振像差的表達(dá)
        2.2.1 瓊斯矩陣與瓊斯光瞳
        2.2.2 瓊斯矩陣的分解與瓊斯光瞳的分解
    2.3 偏振像差評(píng)價(jià)方法
        2.3.1 光瞳切趾與標(biāo)量波前
        2.3.2 二向衰減
        2.3.3 延遲
    2.4 薄膜理論
        2.4.1 菲涅爾公式
        2.4.2 單層介質(zhì)膜的特性計(jì)算
        2.4.3 多層介質(zhì)膜的特性計(jì)算
        2.4.4 光學(xué)薄膜的瓊斯矩陣
    2.5 本章小結(jié)
第3章 引起偏振像差的因素分析
    3.1 特定的偏振光學(xué)元件產(chǎn)生的偏振效應(yīng)
        3.1.1 偏振器
        3.1.2 延遲器
        3.1.3 退偏器
    3.2 常見(jiàn)的光學(xué)元件產(chǎn)生的偏振效應(yīng)
        3.2.1 非垂直入射
        3.2.2 透鏡
        3.2.3 全反射棱鏡
        3.2.4 光學(xué)介質(zhì)膜
        3.2.5 反射鏡
    3.3 本章小結(jié)
第4章 光學(xué)系統(tǒng)偏振像差的優(yōu)化
    4.1 NA1.35 投影光刻物鏡的結(jié)構(gòu)
    4.2 NA1.35 投影光刻物鏡瓊斯光瞳與物理光瞳
        4.2.1 瓊斯光瞳獲取
        4.2.2 物理光瞳獲取
    4.3 常規(guī)膜系NA1.35 投影光刻物鏡系統(tǒng)的偏振像差
        4.3.1 常規(guī)膜系NA1.35 投影光刻物鏡系統(tǒng)偏振像差因素分析
        4.3.2 常規(guī)膜系NA1.35 投影光刻物鏡系統(tǒng)偏振像差計(jì)算
    4.4 光學(xué)系統(tǒng)偏振像差的優(yōu)化
        4.4.1 偏振像差的優(yōu)化方法
        4.4.2 多層膜系設(shè)計(jì)
    4.5 優(yōu)化膜系NA1.35 投影光刻物鏡系統(tǒng)的偏振像差
    4.6 光刻仿真
    4.7 本章小結(jié)
第5章 結(jié)論與展望
    5.1 工作總結(jié)
    5.2 工作展望
參考文獻(xiàn)
致謝
作者簡(jiǎn)歷及攻讀學(xué)位期間發(fā)表的學(xué)術(shù)論文與研究成果



本文編號(hào)：3760015