伴隨技術(shù)創(chuàng)新,光電器件逐漸微型化,也促使薄膜厚度越來越薄。以前可能被忽略不計的幾個納米厚度的超薄材料成為研究的焦點。這些超薄材料具有與塊體材料不同的光電性質(zhì),且光學(xué)常數(shù)會隨著厚度發(fā)生改變。無論是在基礎(chǔ)科學(xué)研究還是光電子器件的設(shè)計優(yōu)化中,都需要準(zhǔn)確獲取超薄材料的厚度和光學(xué)性質(zhì)。光譜橢偏測量在超薄材料的幾何結(jié)構(gòu)參數(shù)和光學(xué)常數(shù)測量中廣泛應(yīng)用。本文在傳統(tǒng)橢偏測量數(shù)據(jù)分析方法的基礎(chǔ)上,研究了如何實現(xiàn)超薄材料基于橢偏參數(shù)的層數(shù)快速識別,提出了基于解析求解的快速獲取超薄材料光學(xué)常數(shù)的計算方法。具體內(nèi)容如下:（1）研究了基于模型擬合的超薄材料橢偏測量基本理論方法。本文闡述了橢偏測量的基本原理、膜系的光學(xué)特性建模、粗糙界面處理方法、基于擬合的待測參數(shù)提取方法。通過上述光譜橢偏理論方法測量提取了石墨烯光學(xué)常數(shù)。（2）針對超薄層狀材料的層數(shù)快速識別問題,通過建模仿真,以透明基底上的石墨烯為例,實現(xiàn)橢偏測量快速識別二維材料層數(shù),且對比度明顯,優(yōu)于光學(xué)識別方法。通過橢偏測量實驗,驗證了方法的可行性,達到了快速識別二維材料層數(shù)的目的。（3）針對超薄材料光學(xué)常數(shù)橢偏測量數(shù)據(jù)分析,提出了在無先驗知識條件下快速直接的光... 

【文章頁數(shù)】：63 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【文章目錄】：
摘要
Abstract
1 緒論
    1.1 課題來源
    1.2 課題研究目的及意義
    1.3 國內(nèi)外研究現(xiàn)狀
    1.4 論文主要研究內(nèi)容
2 基于模型擬合的超薄材料光譜橢偏測量方法
    2.1 光譜橢偏測量基本原理
    2.2 超薄膜層材料光學(xué)特性建模方法
    2.3 基于模型擬合的光譜橢偏數(shù)據(jù)分析方法
    2.4 基于模型擬合的超薄材料光譜橢偏測量實驗
    2.5 本章小結(jié)
3 基于橢偏對比度的超薄材料厚度快速測量方法
    3.1 橢偏對比度定義
    3.2 基于橢偏對比度的超薄材料厚度測量仿真
    3.3 基于橢偏對比度的超薄材料厚度測量實驗
    3.4 本章小結(jié)
4 基于解析求解的超薄材料光學(xué)常數(shù)橢偏測量方法
    4.1 基于解析求解法的超薄材料光學(xué)常數(shù)橢偏測量原理
    4.2 基于解析求解法的超薄材料光學(xué)常數(shù)橢偏測量仿真
    4.3 基于解析求解法的超薄材料光學(xué)常數(shù)橢偏測量實驗
    4.4 本章小結(jié)
5 總結(jié)與展望
    5.1 全文總結(jié)
    5.2 展望
致謝
參考文獻
附錄 攻讀碩士學(xué)位期間的學(xué)術(shù)成果



本文編號：3662573