本文對玻璃晶圓加工過程中常見的三種缺陷類型——顆粒缺陷、氣泡缺陷、三角形劃痕的散射光強進行分析,發(fā)現不同缺陷結構在空間中有不同的散射光強分布特點,可以建立缺陷結構與散射光強空間分布的對應關系;同時針對產線中晶圓表面微米量級缺陷,進行了不同尺寸顆粒缺陷的散射光強度計算,得出了微米級別缺陷尺寸與散射光強度之間的關系曲線。從而提出一種非成像缺陷檢測方法:檢測獲取缺陷散射光強值與空間分布,利用散射光空間分布結構確定缺陷結構以及利用散射光強計算缺陷尺寸,從而間接確定缺陷信息,達到缺陷檢測的目的。為晶圓產業(yè)應用過程中的缺陷快速檢測提供方法參考。 

【文章頁數】：6 頁

【文章目錄】：
1 引言
2 缺陷外形結構與散射光空間分布
3 缺陷尺寸與散射光強
4 結論


【參考文獻】：
期刊論文
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[4]最近的超精密測量技術的研究狀況與展望[J]. 松本弘一,柯豐.  現代測量與實驗室管理. 1993(04)

博士論文
[1]精密表面缺陷檢測散射成像理論建模及系統(tǒng)分析研究[D]. 王世通.浙江大學 2015

碩士論文
[1]納米級激光外差干涉檢測系統(tǒng)的設計與實現[D]. 朱祥.中北大學 2017
[2]IC晶圓表面缺陷檢測技術研究[D]. 馬磊.電子科技大學 2015



本文編號：3651920