為了研究靜/動(dòng)態(tài)刻蝕過(guò)程中熔石英表面質(zhì)量和抗激光損傷性能的演變規(guī)律,優(yōu)化化學(xué)刻蝕工藝,使用HF酸緩沖液對(duì)熔石英分別進(jìn)行了不同時(shí)間的靜/動(dòng)態(tài)刻蝕處理。實(shí)驗(yàn)表明,由于兆聲場(chǎng)輔助攪拌作用,熔石英動(dòng)態(tài)刻蝕的刻蝕速率快于靜態(tài)刻蝕。動(dòng)態(tài)刻蝕后熔石英表面均方根（RMS）粗糙度和反射面形分別為<1nm和0.46λ,其3倍頻透射率先小幅增加后保持穩(wěn)定,相比初始表面增加約0.1%。而靜態(tài)刻蝕使得表面RMS粗糙度和反射面形分別增加至⁵nm和0.82λ,其3倍頻透射率先基本不變后下降,相比初始表面下降約0.4%。二者損傷閾值呈現(xiàn)明顯不同變化規(guī)律:靜態(tài)刻蝕使熔石英損傷閾值先小幅增加約30%后逐漸降低,動(dòng)態(tài)刻蝕使熔石英損傷閾值增加近一倍后保持相對(duì)穩(wěn)定。結(jié)果表明,動(dòng)態(tài)刻蝕后熔石英光學(xué)元件性能明顯優(yōu)于靜態(tài)刻蝕。 

【文章來(lái)源】：應(yīng)用光學(xué). 2017,38(05)北大核心CSCD

【文章頁(yè)數(shù)】：7 頁(yè)

【文章目錄】：
引言
1 實(shí)驗(yàn)過(guò)程
2 HF酸刻蝕原理
3 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析
    3.1 刻蝕速率
    3.2 表面粗糙度與反射面形
    3.3 透射率
    3.4 抗激光損傷性能
4結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
[1]光學(xué)元件兆聲輔助化學(xué)刻蝕工藝參數(shù)優(yōu)化[J]. 王洪祥,李成福,周巖,袁志剛,徐曦,鐘波.  強(qiáng)激光與粒子束. 2015(11)
[2]反應(yīng)等離子體修飾熔石英光學(xué)元件表面研究[J]. 王鋒,吳衛(wèi)東,蔣曉東,唐永建.  光學(xué)學(xué)報(bào). 2011(05)
[3]熔石英亞表面微缺陷原位表征及損傷閾值研究[J]. 蔣勇,袁曉東,向霞,徐世珍,陳猛,王海軍,鄭萬(wàn)國(guó),賀少勃,蔣曉東,呂海兵,陳清海,祖小濤.  光電子.激光. 2010(10)
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[5]利用CO2激光預(yù)處理提高熔石英基片的損傷閾值[J]. 黃進(jìn),呂海兵,葉琳,趙松楠,王海軍,蔣曉東,袁曉東,鄭萬(wàn)國(guó).  中國(guó)激光. 2007(05)

碩士論文
[1]酸蝕刻熔石英過(guò)程中再沉積物形成機(jī)理研究[D]. 殷玉春.西南科技大學(xué) 2016



本文編號(hào)：3504146