發(fā)布時(shí)間：2021-10-10 22:38

　　目前集成電路對(duì)微電子測量技術(shù)提出了較高要求,其中光學(xué)關(guān)鍵尺寸作為微電子測量中的關(guān)鍵,其分辨率與測量極限問題表現(xiàn)得較為突出。本文基于相干光技術(shù),詳細(xì)研究相干光技術(shù)在微電子光學(xué)測量中的應(yīng)用,并提出一套完整的系統(tǒng)方案,希望為進(jìn)一步提高微電子測量精準(zhǔn)度尋找出更有效的方法。 

【文章來源】：電子元器件與信息技術(shù). 2020,4(09)

【文章頁數(shù)】：2 頁

【部分圖文】：

系統(tǒng)結(jié)構(gòu)

【參考文獻(xiàn)】：
期刊論文
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本文編號(hào)：3429282