光波經(jīng)過物體表面反射、散射后偏振態(tài)將發(fā)生變化,會加載目標(biāo)的許多信息。偏振探測技術(shù)就是通過探測光波照射物體前后偏振態(tài)的變化來獲取目標(biāo)信息的。在偏振探測技術(shù)中,穆勒矩陣（Mueller）能夠很好描述這種光波偏振態(tài)的變化,是獲取目標(biāo)偏振特性的重要手段。但Mueller矩陣的測量受物體材料、粗糙度、周圍環(huán)境、入射角等因素影響很大,因此,本論文重點研究了不同入射角對目標(biāo)Mueller矩陣的影響,進而分析了入射角與目標(biāo)的雙向衰減參量、偏振參數(shù)、退偏振指數(shù)等偏振指標(biāo)的關(guān)系。具體工作如下:1、采用多次旋轉(zhuǎn)式Mueller矩陣測量裝置,測量了不同入射角下金屬目標(biāo)（銅片、鋁片、鋼片）和非金屬目標(biāo)（硅片、藍寶石片）的Mueller矩陣。測量的實驗裝置由圓偏振光產(chǎn)生系統(tǒng)、起偏系統(tǒng)、檢偏系統(tǒng)構(gòu)成。為使數(shù)據(jù)處理簡單,設(shè)計起偏系統(tǒng)偏振片和波片的旋轉(zhuǎn)角度,以獲得6種特殊偏振態(tài)的入射光,設(shè)計檢偏系統(tǒng)偏振片和波片的旋轉(zhuǎn)角度,以獲得6種特殊檢偏系統(tǒng)Mueller矩陣,再根據(jù)斯托克斯矢量（Stokes）與Mueller矩陣的關(guān)系求解出目標(biāo)的Mueller矩陣。2、分析了入射角對三種金屬材料和兩種非金屬材料Mueller矩陣各... 

【文章來源】：遼寧師范大學(xué)遼寧省

【文章頁數(shù)】：54 頁

【學(xué)位級別】：碩士

【部分圖文】：

橢圓偏振各參量之間的關(guān)系

龐加球圖示法Figure2.2Poincarespheregraphicmethod

0m隨入射角變化曲線


本文編號：3371814