發(fā)布時間：2018-05-18 11:30

  本文選題：X射線光學(xué) + 背光面源��； 參考：《中國激光》2017年09期

【摘要】：數(shù)千電子伏特(Multi-keV)量級的X射線背光成像是高能密度等離子體物理實驗中常用的一種診斷技術(shù)。在神光II激光裝置上,研究了納秒激光驅(qū)動鈦4.7keV波段及氯2.7keV波段背光面源的性能。研究結(jié)果表明,氯背光能譜以類He線及類H線為主,其中2.7keV波段的類He-α線最強(qiáng);在當(dāng)前神光II激光加載能力下,氯背光面源相對強(qiáng)度超過鈦背光面源一個量級,因此,可選用氯He-α線的X光探針進(jìn)行背光診斷。
[Abstract]:The X ray backlight imaging of thousands of electron volt (Multi-keV) magnitude is a diagnostic technique commonly used in high energy density plasma physics experiments. The performance of nanosecond laser driven Ti 4.7keV and 2.7keV band backlight sources was studied on the Shen Guang II laser device. The results show that the energy spectrum of the chlorine back light spectrum is dominated by the class of He line and the H like line. The 2.7keV band like He- alpha line is the strongest, and the relative intensity of the chlorinated backlight surface is more than one magnitude of the titanium back light surface source under the current optical II laser loading capacity. Therefore, the X light probe of the chlorine He- alpha line can be selected for the backlight diagnosis.
【作者單位】： 中國工程物理研究院上海激光等離子體研究所;
【基金】：國家自然科學(xué)基金(61475146)
【分類號】：O434.1;TL632

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本文編號：1905666