本文關鍵詞： 衍射 衍射光學元件 衍射效率 微結構高度誤差　出處：《激光與光電子學進展》2017年06期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：基于衍射效率與入射角度的表達式和正入射時微結構高度誤差與衍射效率的表達式,建立了斜入射時衍射光學元件(DOEs)的微結構高度誤差與衍射效率和帶寬積分平均衍射效率(PIDE)的數(shù)學關系。當相對微結構高度誤差的絕對值相等時,負相對微結構高度誤差高于正相對微結構高度誤差對應的衍射效率和帶寬積分平均衍射效率。該分析方法和結論為衍射光學元件的微結構高度加工公差的制定提供了理論參考。
[Abstract]:Based on the expression of diffraction efficiency and incidence angle, and the expression of height error of microstructure and diffraction efficiency under normal incidence, The mathematical relation between the height error of microstructure and the diffraction efficiency and the average diffraction efficiency of bandwidth integral is established. When the absolute value of the relative height error of microstructure is equal, The negative relative microstructural height error is higher than the diffraction efficiency and the bandwidth integral average diffraction efficiency corresponding to the positive relative microstructural height error. The analytical method and conclusion provide a theoretical reference for the formulation of the microstructural height machining tolerance of diffractive optical elements.
【作者單位】： 鹽城師范學院新能源與電子工程學院;
【基金】：國家自然科學基金(11604289) 江蘇省高校自然科學研究基金(16KJD140001)
【分類號】：O436.1

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本文編號：1512816