本文關(guān)鍵詞：基于分層法模擬光學(xué)薄膜的導(dǎo)納軌跡圖　出處：《北京師范大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)》2017年03期 　論文類型：期刊論文

  更多相關(guān)文章： 光學(xué)薄膜 導(dǎo)納軌跡圖解 分層法 傳輸矩陣法

【摘要】：采用分層法與傳輸矩陣法,從理論上模擬了雙層減反膜、3層減反膜以及周期性多層膜的導(dǎo)納軌跡圖,并且分析了減反膜與具有高反射率的周期性多層膜的導(dǎo)納軌跡圖特性.結(jié)果表明,減反膜的導(dǎo)納圖終點(diǎn)接近于導(dǎo)納軌跡圖實(shí)軸上與入射介質(zhì)導(dǎo)納值相同的點(diǎn),而周期性高反膜的導(dǎo)納圖終點(diǎn)卻接近于實(shí)軸上0點(diǎn)或無(wú)窮大.
[Abstract]:Using hierarchical method and transfer matrix method, theoretically simulated double layer antireflection coating, 3 layer antireflection coating and periodic multilayer admittance locus, and analyze the admittance locus reduction characteristics of periodic multilayer film and film with high reflectance. The results show that the antireflective film guide region end point close to the admittance locus on the real axis and the incident medium admittance to the same value, and the periodic admittance diagram end point of high reflection films is close to the real axis 0 or infinity.

【作者單位】： 中國(guó)地質(zhì)大學(xué)(北京)材料科學(xué)與工程學(xué)院;北京師范大學(xué)物理學(xué)系;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(11547241)
【分類號(hào)】：O484.41
【正文快照】： 0　引言光學(xué)薄膜常用作減反膜、高反膜,是光學(xué)儀器重要光學(xué)參數(shù)的調(diào)控器件[1-2].由于其具有良好的空間周期性,結(jié)構(gòu)相對(duì)自由、改動(dòng)空間大,易于結(jié)合等優(yōu)點(diǎn),光學(xué)薄膜技術(shù)已廣泛應(yīng)用于各尖端領(lǐng)域.導(dǎo)納軌跡的求解與模擬是研究多層薄膜系統(tǒng)性質(zhì)的有力工具,表示方式直觀簡(jiǎn)便,在分析與

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