本文關(guān)鍵詞：內(nèi)流近壁區(qū)非定常等離子體的流動控制機理　出處：《高電壓技術(shù)》2017年06期 　論文類型：期刊論文

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【摘要】：為了揭示非定常等離子體激勵在壓氣機內(nèi)流近壁區(qū)的流動控制機理,建立了等離子體激勵流動控制的計算模型,采用基于shear stress transport(SST)湍流模型的尺度自適應(yīng)雷諾平均/大渦(RANS/LES)混合模擬方法進行非定常數(shù)值模擬,研究了非定常等離子體激勵的耦合作用機理。結(jié)果表明:機匣近壁區(qū)轉(zhuǎn)子吸力面流動分離導(dǎo)致葉頂泄漏渦破碎并觸發(fā)轉(zhuǎn)子內(nèi)部流動失穩(wěn)。非定常等離子體激勵與機匣近壁區(qū)流場相互作用產(chǎn)生誘導(dǎo)渦,誘導(dǎo)渦與葉頂泄漏渦發(fā)生耦合作用,促使葉頂泄漏渦產(chǎn)生周期性的振蕩,抑制葉頂泄漏渦向轉(zhuǎn)子前緣移動,機匣近壁區(qū)流場抵抗逆壓力梯度的能力增強,有效地抑制轉(zhuǎn)子吸力面流動分離,與定常等離子體激勵相比流動控制效果更好。
【作者單位】： 空軍工程大學(xué)等離子體動力學(xué)重點實驗室;
【基金】：國家自然科學(xué)基金重點項目(51336011)~~
【分類號】：O53
【正文快照】： 0引言1等離子體激勵流動控制具有頻帶響應(yīng)寬(0~10k Hz)、響應(yīng)時間短、無移動部件、功率消耗低等顯著技術(shù)優(yōu)勢,基于等離子體氣動激勵的流動控制[1]技術(shù)是近年來的熱門研究領(lǐng)域之一。基于不同的作用機理,納秒脈沖介質(zhì)阻擋放電[2-3]、交流介質(zhì)阻擋放電[4]、等離子體合成射流[5-6]

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本文編號：1313437