本文關(guān)鍵詞：975nm分布反饋激光器一級光柵的制備

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【摘要】：優(yōu)化設(shè)計了975nm分布反饋激光器的一級布拉格光柵結(jié)構(gòu)。將納米壓印技術(shù)與干法刻蝕工藝相結(jié)合制備周期為148nm的光柵結(jié)構(gòu),通過優(yōu)化調(diào)整刻蝕氣體流量比、腔室壓強和偏壓功率等參數(shù),得到了合適的光柵刻蝕工藝參數(shù)。掃描電子顯微鏡測試顯示,光柵周期為148nm,占空比接近50%,深度合適,表面形貌、連續(xù)性和均勻性良好。將所制備光柵應(yīng)用于975nm分布反饋激光器中,激光器輸出性能良好,波長隨溫度漂移系數(shù)小,光柵對波長的鎖定效果良好。
【作者單位】： 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所光電子器件國家工程研究中心;
【分類號】：TN248
【正文快照】： 0引言975nm大功率半導(dǎo)體激光器憑借其體積小、壽命長及可靠性高等優(yōu)點被廣泛用作固體激光器、光纖激光器和放大器[1-2]的泵浦源。然而被抽運的激光器吸收譜線寬都比較窄,所以需要具有窄線寬、波長穩(wěn)定的泵浦源。為了實現(xiàn)激光器波長穩(wěn)定、窄線寬輸出,降低波長隨溫度和電流的漂

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本文編號：1306754