本文關(guān)鍵詞：濾光片對透射式微型X光管譜線影響的MC數(shù)值模擬分析

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【摘要】：現(xiàn)場X射線熒光分析(EDXRF)中,使用濾光片可以有效的降低或消除由原級譜在樣品中散射背景,特征譜對待測元素的干擾。論文采用MCNP5程序模擬了加不同厚度Al、Cu、Ag、Kapton濾光片前后的原級譜分布。依據(jù)模擬結(jié)果,原級X射線譜的譜分布與濾光片的材質(zhì)和厚度有關(guān)。能量低于5ke V的射線對分析是無用的。在能量5~10 ke V的能量譜段,選擇Al濾光片較為合適;在能量10~25ke V譜段范圍,Ag濾光片相對于另外三種濾光片較為合適。從而為現(xiàn)場X熒光分析儀的研制提供技術(shù)支撐。
【作者單位】： 核工業(yè)二一六大隊;核與輻射安全管理中心;成都理工大學(xué)核技術(shù)與自動化工程學(xué)院;
【分類號】：O434.1
【正文快照】： 3.成都理工大學(xué)核技術(shù)與自動化工程學(xué)院,四川成都610059)微型X射線管由于其能量、強(qiáng)度可調(diào)等優(yōu)點,已經(jīng)逐漸取代放射性激發(fā)源,成為現(xiàn)場X射線熒光分析(EDXRF)中最常用的激發(fā)源[1]。在使用X射線管激發(fā)樣品時,X射線原級譜的散射射線是構(gòu)成待測元素背景的主要來源。濾光片,可以有效

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