發(fā)布時(shí)間：2017-12-10 17:14

  本文關(guān)鍵詞：利用金屬環(huán)聚焦的HTS薄膜R_s分布測(cè)試法的研究

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【摘要】：介紹了一種測(cè)試高溫超導(dǎo)薄膜微波表面電阻分布的新方法。該方法利用鏡像法相關(guān)原理,通過(guò)引入金屬環(huán)實(shí)現(xiàn)介質(zhì)諧振器和腔體的能量匯聚,解決了高溫超導(dǎo)薄膜微波表面電阻的分布測(cè)試通用性與高分辨率不兼容的問(wèn)題。根據(jù)該方法研制了工作在32 GHz的頻率下,工作模式為T(mén)E012+δ的測(cè)試裝置,其分辨率為直徑5 mm,面積19.6 mm~2的圓面。測(cè)試裝置對(duì)一片兩英寸YBCO/LAO/YBCO超導(dǎo)薄膜樣品進(jìn)行了13個(gè)點(diǎn)的表面電阻分布測(cè)試。
【作者單位】： 電子科技大學(xué)光電信息學(xué)院;
【基金】：國(guó)家自然科學(xué)基金(61301055)
【分類(lèi)號(hào)】：TM26
【正文快照】： Study of Distribution Test Method of HTS Thin Film’s Rs Using MetalRing for Focusing高溫超導(dǎo)(HTS)薄膜微波表面電阻Rs是高溫超導(dǎo)材料非常重要的特性參數(shù),然而高溫超導(dǎo)薄膜表面電阻分布并不均勻,故需要對(duì)HTS微波表面電阻的分布進(jìn)行測(cè)量,以便更好地評(píng)估HTS薄膜的特性,設(shè)

【相似文獻(xiàn)】

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