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水輔助激光誘導(dǎo)等離子體背部刻蝕Pyrex7740玻璃

發(fā)布時(shí)間:2017-12-10 05:03

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【摘要】:提出了水輔助激光誘導(dǎo)等離子體背部刻蝕Pyrex7740玻璃的方法,制備了縮小型十字通道微流控芯片。通過(guò)理論分析和加工試驗(yàn),研究了激光能量密度和激光加工次數(shù)對(duì)平均刻蝕深度的影響,以及刻蝕過(guò)程中去離子水的作用。研究結(jié)果表明,平均刻蝕深度與激光能量密度和激光加工次數(shù)有較大關(guān)系;去離子水有助于實(shí)現(xiàn)持續(xù)刻蝕,制得的芯片溝槽寬度為77.8μm,刻蝕深度為20.4μm,刻蝕邊緣齊整,無(wú)明顯崩邊現(xiàn)象;而在沒(méi)有去離子水輔助的情況下,當(dāng)激光能量密度為3.4J/cm~2時(shí),最大刻蝕深度為2.8μm。
【作者單位】: 溫州大學(xué)中國(guó)機(jī)械工業(yè)激光精細(xì)加工與檢測(cè)技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室;青島理工大學(xué)山東省激光綠色高效智能制造工程技術(shù)研究中心;
【基金】:國(guó)家自然科學(xué)基金(51775289) 山東省重大關(guān)鍵技術(shù)項(xiàng)目(2016ZDJS02A15) 山東省泰山學(xué)者工程專項(xiàng)(TS201511038) 溫州市公益科技計(jì)劃項(xiàng)目(G20170014)
【分類號(hào)】:TN249
【正文快照】: 隨著微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)研究和應(yīng)用的快速發(fā)展,MEMS器件對(duì)互聯(lián)、尺寸以及封裝的可靠性要求不斷提高。目前,國(guó)內(nèi)外制備MEMS器件的材料主要包括硅片、有機(jī)化合物和玻璃三大類。Pyrex7740玻璃101404-1具有良好的生物適應(yīng)性、高的熱阻及優(yōu)良的光學(xué)性能和電絕緣性能,在一定溫度內(nèi)其熱

【相似文獻(xiàn)】

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3 周南;周亢;丁圭吉;;關(guān)于激光誘導(dǎo)裂析譜專題的歐洲-地中海會(huì)議2007(Ⅱ)[J];分析試驗(yàn)室;2009年09期

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中國(guó)博士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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8 郭連波;激光誘導(dǎo)擊穿光譜中的等離子體發(fā)射光譜增強(qiáng)方法研究[D];華中科技大學(xué);2012年

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10 張宏超;納秒激光誘導(dǎo)空氣等離子體光學(xué)診斷與機(jī)理分析[D];南京理工大學(xué);2009年

中國(guó)碩士學(xué)位論文全文數(shù)據(jù)庫(kù) 前10條

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6 王鑫;基于激光誘導(dǎo)擊穿光譜煤質(zhì)分析儀的研制[D];山西大學(xué);2015年

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本文編號(hào):1273201

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