X射線大視場相襯成像位移誤差的數(shù)值分析
發(fā)布時間:2017-12-06 03:12
本文關鍵詞:X射線大視場相襯成像位移誤差的數(shù)值分析
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【摘要】:隨著X射線光柵相襯成像視場的擴大,相位步進法中的位移誤差會對相襯圖像造成很大影響.提出一種X射線大視場光柵相襯成像位移誤差的數(shù)值分析方法,通過數(shù)值計算獲得不同位移誤差下兩個聚苯乙烯小球的相襯成像結果.理論模型的數(shù)值計算結果表明,位移誤差會導致小球相襯圖像產生明暗條紋的背景干擾,位移誤差越大,其相襯圖像受背景條紋的干擾越嚴重.當位移誤差達到光柵周期的1/10時,小球相襯信息幾乎被背景條紋所淹沒,致使其邊緣信息無法識別.要獲得背景均勻的大視場相襯圖像,則位移誤差最好控制在光柵周期的1/100以下.分析結果可為X射線大視場相襯成像系統(tǒng)的設計提供參考依據(jù).
【作者單位】: 深圳大學光電工程學院光電子器件與系統(tǒng)教育部/廣東省重點實驗室;深圳大學信息工程學院;
【基金】:國家重大科研儀器設備研制專項資助項目(61227802) 國家自然科學基金資助項目(11674232) 中國博士后科學基金資助項目(2016M592529)~~
【分類號】:TP391.41;O434.1
【正文快照】: Foundation:National Special Foundation of China for Major Science Instrument(61227802);National Natural Science Foundationof China(11674232);China Postdoctoral Science Foundation(2016M592529)自倫琴發(fā)現(xiàn)X射線以來,X射線成像技術已被廣泛用于探測物體內部結構.
【相似文獻】
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本文編號:1257150
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