形貌與微變形全場光學(xué)同時測量方法
發(fā)布時間:2017-12-05 09:17
本文關(guān)鍵詞:形貌與微變形全場光學(xué)同時測量方法
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【摘要】:在實際工程應(yīng)用中,對材料形貌和結(jié)構(gòu)變形等參量的檢測是必不可少的,而且往往需要進行多參量同時測量。針對該背景,采用數(shù)字散斑干涉與數(shù)字條紋投影相結(jié)合的測量方法,設(shè)計了一種集成光路,通過在數(shù)字散斑干涉實驗光路中引入一個投影設(shè)備,實現(xiàn)物體表面形貌和微變形的同時測量。所提出的方法具有全場非接觸測量的優(yōu)點,且測量光路簡單、操作方便、效率高、可靠性強。該方法的形貌測量分辨率優(yōu)于10μm,形變測量分辨率優(yōu)于30nm。
【作者單位】: 北京信息科技大學(xué)儀器科學(xué)與光電工程學(xué)院;奧克蘭大學(xué)機械工程系;
【基金】:北京市教育委員會科技計劃面上項目(KM201511232004) 國家自然科學(xué)基金項目(51275054)
【分類號】:O439
【正文快照】: 2.奧克蘭大學(xué)機械工程系,美國密西根州羅徹斯特市48309)引言在工程領(lǐng)域,單一參量的測量往往比較容易,有多種成熟的技術(shù)可以選擇,而多參量的同時測量則較為困難。通常通過組合多種測量技術(shù)進行多參量的測量,但如此則無法滿足多技術(shù)同時同位置測量的要求。而工程中多參量的測量,
本文編號:1254315
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