大口徑大視場(chǎng)望遠(yuǎn)鏡探測(cè)器平面度檢測(cè)方法綜述
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【部分圖文】:
圖1光學(xué)系統(tǒng)成像原理圖
在焦深范圍內(nèi),成像質(zhì)量仍然能滿足光學(xué)系統(tǒng)性能需求。光學(xué)系統(tǒng)成像原理圖如圖1。由此可知對(duì)于給定的光學(xué)系統(tǒng),CCD靶面傾角誤差應(yīng)嚴(yán)格地限制在焦深范圍,否則將使部分靶面脫離光學(xué)系統(tǒng)像面,在光學(xué)系統(tǒng)視場(chǎng)范圍內(nèi)使得圖像有虛有實(shí),達(dá)不到系統(tǒng)的使用要求[3]。
圖2加州大學(xué)/利克天文臺(tái)用于CCD平面度測(cè)量的裝置示意圖[5]
該系統(tǒng)由一個(gè)激光器、一個(gè)放置CCD的X-Y平移臺(tái)、兩個(gè)反射鏡和一個(gè)用于探測(cè)反射激光束位置的照相機(jī)組成。激光束由第一面鏡子定向到被測(cè)表面上,然后從CCD表面反射到第二個(gè)鏡子引導(dǎo)光束到相機(jī)探測(cè)系統(tǒng)。如果移動(dòng)被測(cè)CCD,其表面的局部坡度發(fā)生變化,相機(jī)就會(huì)記錄下光點(diǎn)的移動(dòng)。通過(guò)掃描整個(gè)表....
圖3RGO測(cè)量方法光學(xué)原理圖[5]
這種技術(shù)的缺點(diǎn)是CCD必須是處于接通電源以及冷卻狀態(tài)的,并且冷卻需要很長(zhǎng)時(shí)間,這大大延長(zhǎng)了校正周期所需的時(shí)間,包括測(cè)量地形、校正傾斜度以及再次測(cè)量。所以需要很長(zhǎng)的測(cè)量周期,此外,它還無(wú)法測(cè)量機(jī)械樣品。3.4干涉儀測(cè)量法
圖4干涉儀測(cè)量原理圖[7]
通過(guò)在干涉儀的一支光路中引入被測(cè)量,干涉儀的光程差就會(huì)發(fā)生變化,干涉條紋也會(huì)隨之變化,這時(shí)可測(cè)量出干涉條紋的變化量,就可以獲得與介質(zhì)折射率和幾何路程有關(guān)的一系列物理量和幾何量[6]。干涉儀測(cè)量原理圖如圖4所示。為了重建CCD的形狀,需要分析了非常窄的帶通光條紋圖,CCD之間的拼接....
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