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高壓靜電場(chǎng)霧化過程中荷電微射流體的研究

發(fā)布時(shí)間:2022-12-18 12:34
  為了研究高壓靜電霧化過程中荷電微射流體液橋狀態(tài)對(duì)霧化效果的影響,利用無動(dòng)力空腔針–板放電裝置,分析了影響荷電微射流體特性的因素。通過高速攝像機(jī)及圖像分析軟件,測(cè)量了不同電壓和液體種類下液橋長(zhǎng)度、液橋斷裂后的平均粒徑、霧化均勻度等參數(shù)。結(jié)果表明:液體介質(zhì)的粘度系數(shù)和表面張力對(duì)液橋形成、狀態(tài)有顯著影響,粘度系數(shù)與液橋長(zhǎng)度呈現(xiàn)正相關(guān)性;放電電壓、微射流體模式是影響放電空間液滴平均粒徑尺寸的主要因素。以霧化均勻度作為霧化效果的評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn),該研究得出的優(yōu)化電壓值為25kV。 

【文章頁(yè)數(shù)】:6 頁(yè)

【文章目錄】:
0引言
1 試驗(yàn)裝置與試驗(yàn)方法
2 試驗(yàn)結(jié)果與分析
    2.1 荷電微射流體圖像
    2.2 液橋長(zhǎng)度
    2.3 液橋斷裂后微射流體的平均粒徑
    2.4 液體介質(zhì)霧化均勻度
3 結(jié)論


【參考文獻(xiàn)】:
期刊論文
[1]泰勒錐形成與斷裂影響因素[J]. 李慶,譚國(guó)政,吉曉曉,殷宇朝.  河北大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版). 2018(01)
[2]針–板電極負(fù)電暈放電下離子分布狀態(tài)的影響因素[J]. 李慶,劉曉娃,劇曉晨,殷宇朝.  高電壓技術(shù). 2017(05)
[3]感應(yīng)荷電過程中噴霧荷電特性影響規(guī)律實(shí)驗(yàn)研究[J]. 王軍鋒,張仕超,左子文.  高電壓技術(shù). 2017(02)
[4]霧化液滴在高壓靜電場(chǎng)中的動(dòng)力學(xué)過程[J]. 李慶,殷宇朝,劉曉娃,劇曉晨,楊青.  高電壓技術(shù). 2017(02)
[5]等離子噴涂參數(shù)對(duì)TiB2可濕潤(rùn)陰極涂層沉積效率的影響[J]. 彭如振,李榮興,俞小花,謝剛.  金屬熱處理. 2016(03)
[6]電暈放電耦合濕式吸收同時(shí)脫硫脫硝的實(shí)驗(yàn)研究[J]. 吳祖良,侯培,趙佳佳,王家興,徐燕,姚水良.  高電壓技術(shù). 2016(02)
[7]基于紙張類型的靜電數(shù)字印刷復(fù)制性能研究[J]. 王琪,柴江松,劉洪豪.  科學(xué)技術(shù)與工程. 2015(23)
[8]靜電噴涂熒光滲透檢測(cè)空心結(jié)構(gòu)零件[J]. 蘇清風(fēng),江惠東,袁雅妮.  無損檢測(cè). 2014(11)
[9]高壓靜電霧化液體的測(cè)試研究[J]. 尹鵬騰,韓雪山,畢鐸,段天雄,胡彬.  通信電源技術(shù). 2014(03)
[10]石灰漿液高壓靜電霧化脫硫試驗(yàn)及機(jī)理研究[J]. 鄧云天,陳匯龍,趙英春,王貞濤,陳萍,彭正東.  動(dòng)力工程學(xué)報(bào). 2011(09)

博士論文
[1]高壓靜電場(chǎng)中液體射流的霧化研究及應(yīng)用[D]. 汪朝暉.重慶大學(xué) 2009

碩士論文
[1]毛細(xì)管靜電霧化模式與電場(chǎng)特性研究[D]. 張永輝.江蘇大學(xué) 2016
[2]靜電噴霧變量控制系統(tǒng)霧化效果的研究[D]. 果紅忠.西南大學(xué) 2013
[3]荷電液滴霧化機(jī)理的研究[D]. 王曉英.江蘇大學(xué) 2006



本文編號(hào):3722063

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